$ICP dry Plasma Pagtanggal ng Photoresist \ Plasma Pagtanggal ng Photoresist (PR) machine para sa semiconductor wafer$
$ICP dry Plasma Pagtanggal ng Photoresist \ Plasma Pagtanggal ng Photoresist (PR) machine para sa semiconductor wafer$
$ICP dry Plasma Pagtanggal ng Photoresist \ Plasma Pagtanggal ng Photoresist (PR) machine para sa semiconductor wafer$
$ICP dry Plasma Pagtanggal ng Photoresist \ Plasma Pagtanggal ng Photoresist (PR) machine para sa semiconductor wafer$
$ICP dry Plasma Pagtanggal ng Photoresist \ Plasma Pagtanggal ng Photoresist (PR) machine para sa semiconductor wafer$
$ICP dry Plasma Pagtanggal ng Photoresist \ Plasma Pagtanggal ng Photoresist (PR) machine para sa semiconductor wafer$

$ICP dry Plasma Pagtanggal ng Photoresist \ Plasma Pagtanggal ng Photoresist (PR) machine para sa semiconductor wafer$
$ICP dry Plasma Pagtanggal ng Photoresist \ Plasma Pagtanggal ng Photoresist (PR) machine para sa semiconductor wafer$
$ICP dry Plasma Pagtanggal ng Photoresist \ Plasma Pagtanggal ng Photoresist (PR) machine para sa semiconductor wafer$
$ICP dry Plasma Pagtanggal ng Photoresist \ Plasma Pagtanggal ng Photoresist (PR) machine para sa semiconductor wafer$
$ICP dry Plasma Pagtanggal ng Photoresist \ Plasma Pagtanggal ng Photoresist (PR) machine para sa semiconductor wafer$
$ICP dry Plasma Pagtanggal ng Photoresist \ Plasma Pagtanggal ng Photoresist (PR) machine para sa semiconductor wafer$

ICP dry Plasma Pagtanggal ng Photoresist \ Plasma Pagtanggal ng Photoresist (PR) machine para sa semiconductor wafer

Paglalarawan ng Produkto

ICP PLASMA Alisin ang Photoresist Machine

ASHING
Pagtanggal ng Polymer
Diyos na pagtanggal ng hard mask layer
Pagtanggal ng photoresistance matapos ang ion implantation
Pagtanggal ng photoresistance sa proseso ng BAW/SAW
Panghihigpit nang hudyat ng antireflective coating film layer
Pagsalakay sa residue sa ibabaw
Paghuhusay ng ibabaw pagkatapos ng pagpaputol
DESCUM

Ang ICP dry plasma photoresist removal machine ay maaaring gamitin para sa DESCUM (pre-treatment, pagtanggal ng residue ng photoresist) Pagtanggal ng Polymer (PI, BCB, PBO) Pagkatapos ng ion implantation, pagtanggal ng photoresist, atbp., ang cavity ay maaaring magamit para sa 8-inch samples (4-6 inch compatible)

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer details

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer supplier

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer manufacture

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer factory

Espesipikasyon

Plasma			RF	RF
Kapangyarihan	ICP	1000W	1000W
Kapangyarihan		BIAS	600w(option)	600w(option)
Ambito ng paggamit			4~8 pulgada	4~8 pulgada
Bilang ng slice na sinusubok ng isang beses			1	2
Anyo sukat			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
kontrol ng sistema			Industrial Control System	Industrial Control System
Antas ng Automation			awtomatiko	awtomatiko