ICP dry Plasma Removal ng Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine para sa semiconductor wafer , China ICP dry Plasma Removal ng Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine para sa semiconductor wafer Mga Manufacturer, Supplier, Factory

Paglalarawan ng produkto

ICP PLASMA Alisin ang Photoresist Machine

ASHING
Pag-alis ng polimer
Tuyong pag-alis ng matigas na layer ng maskara
Pag-alis ng photoresistance pagkatapos ng ion implantation
Pag-alis ng photoresistance sa proseso ng BAW/SAW
Dry cleaning ng anti reflective graphic film layer
Pag-alis ng nalalabi sa ibabaw
Paglilinis ng ibabaw pagkatapos ng pag-ukit
DESCUM

Ang ICP dry plasma photoresist removal machine ay angkop para sa DESCUM (pre-treatment, removal of photoresist residue) Polymer removal (PI, BCB, PBO) Pagkatapos ng ion implantation, photoresist removal, atbp., ang cavity ay angkop para sa 8-inch samples (4 -6 inch compatible)

ICP dry Plasma Removal ng Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine para sa mga detalye ng semiconductor wafer

ICP dry Plasma Removal ng Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine para sa semiconductor wafer supplier

ICP dry Plasma Removal ng Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine para sa paggawa ng semiconductor wafer

ICP dry Plasma Removal ng Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine para sa semiconductor wafer factory

detalye

PLASMA			RF	RF
kapangyarihan	ICP	1000w	1000w
kapangyarihan		BIAS	600w(pagpipilian)	600w(pagpipilian)
Naaangkop na saklaw			4~8 pulgada	4~8 pulgada
Iisang pagpoproseso ng slice count			1	2
Mga sukat ng hitsura			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
Kontrol ng system			Sistema ng kontrol sa industriya	Sistema ng kontrol sa industriya
Antas ng automation			awtomatik	awtomatik