Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

home page
TUNGKOL SA AMIN
MH Equipment
Solusyon
Mga Gumagamit mula sa Kabihasnang Bansa
Video
KONTAKTAN NAMIN
Bahay> PVD CVD ALD RIE ICP EBEAM
  • Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment
  • Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment
  • Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment
  • Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment
  • Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment
  • Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment
  • Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment
  • Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment
  • Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment
  • Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment
  • Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment
  • Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment

Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment

Paglalarawan ng Produkto
Sistemang Pagpapatalsik ng Plasmatrong Pamamagitan ng Induktibong Koneksyon (icp)
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment details
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment supplier
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment factory
Resulta ng proseso

Pagpapatalsik ng Quartz / siliko / grating

Gamit ang BR mask upang patalsik ang mga materyales na quartz o siliko, mayroon ang paternong array ng grating ang pinakamahihinang linya hanggang 300nm at ang steepness ng gilid ng paterno ay malapit sa > 89° , na maaaring gamitin para sa 3D display, mikro optical devices, optoelectronic communication, etc
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment factory

Pagpapatalsik ng Compound / semiconductor

Ang tiyak na kontrol ng temperatura ng ibabaw ng sample ay maaaring mabuti kontrolin ang anyo ng etching ng mga material na batay sa GaN, GaAs, InP at metal. Ang katangian na ito ay maaaring gamitin para sa mga device na blue LED, laser, optikong komunikasyon at iba pang aplikasyon.
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment manufacture

Pag-eetch ng materyales na silicon-based

maaring gamitin para sa etching ng mga material na batay sa siliko tulad ng Si, SiO2, at SiNx. Maaari nito realizeng etching ng linya ng siliko na higit sa 50nm at etching ng malalim na butas ng siliko na mas mababa sa 100um
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment factory
Espesipikasyon
Paggawa ng proyekto at diagram ng estruktura ng makina
Item
MD150S-ICP
MD200S-ICP
MD150CS-ICP
MD200CS-ICP
MD300C-ICP
Sukat ng Produkto
≤6 inches
≤8 inches
≤6 inches
≤8 inches
Pasadyang≥12pulgada
SRF Baterya ng kagamitan
0~1000W/2000W/3000W/5000W Aypawat, awtomatikong pagsusulatan\, 13.56MHz/27MHz
BRF Baterya ng kagamitan
0~300W/0~500W/0~1000WAypawat, awtomatikong pagsusulatan, 2MHz/13.56MHz
Molecular Pump
Hindi korosibuhay: 600/1300 (L/s)/Pasadya
Kontra-korosyon: 600/1300 (L/s)/Pasadya
600/1300(L/s)/Pasadya
Foreline pamp
Mekanikal na pampamiglas / yuto pump
Anti-korosyon na yuto pump
Mekanikal na pampamiglas / yuto pump
Unang pampamiglas na pampamiglas
Mekanikal na pampamiglas / yuto pump
Mekanikal na pampamiglas / yuto pump
Prosesong presyon
Hindi kontroladong presyon/0-0.1/1/10Torr kontroladong presyon
Uri ng gas
H2/CH4/O2/N2/Ar/SF6/CF4/
CHF3/C4F8/NF3/NH3/C2F6/Pasadyal
(Hanggang sa 12 channel, walang korosyong at toksikong gas)
H2/CH4/O2/N2/Ar/SF6/CF4/CHF3/ C4F8/NF3/NH3/C2F6/Cl2/BCl3/HBr/
Pasadyal(Hanggang sa 12 channel)
hanay ng gas
0~5sccm/50sccm/100sccm/200sccm/300sccm/500sccm/1000sccm/Pasadyal
LoadLock
Oo/Hindi
Oo
Mga halaman ng kontrol sa temperatura
10°C~Kabahayan~/ -30°C~150°C ~/Pasadya
-30°C~200°C~/Pasadya
Paggamit ng helium para sa pag-init
Oo/Hindi
Oo
Paglilinis sa loob ng kavityahe
Oo/Hindi
Oo
Kontrol sa temperatura ng pader ng kavityahe
Hindi/Kabahayan tem-60/120°C
Kabahayan tem~60/120°C
Control System
Awtomatiko/bipinili
Materyales para sa etching
Base sa siklo: Si/SiO2/
SiNx/ SiC.....
Materyales na organiko: PR/Organiko
pelikula......
Base sa siklo: Si/SiO2/SiNx/SiC
III-V: InP/GaAs/GaN......
IV-IV: SiC
II-VI: CdTe......
Materyales pang-magnet / anyo ng materyales
Mga materyales na metaliko: Ni\/Cr\/Al\/Cu\/Au...
Mga materyales na organiko: PR\/Pelikula Organiko......
Malalim na etching ng silicon
Pakete & Paghahatod
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment supplier
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment details
Company Profile
Mayroon kaming 16 taong karanasan sa pagbebenta ng makinarya. Maaari naming ibigay sa iyo ang One-stop Semiconductor Front-end at Back end Package Line equipments na solusyon mula sa Tsina.
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment supplier

pagsusuri

pagsusuri Email whatsapp Top
×

Magkaroon ng ugnayan