Semiconductor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine , China Semiconductor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine Manufacturers, Suppliers, Factory

Paglalarawan ng Produkto

RIE Plasma alisin photoresist machine

RIE Plasma alisin photoresist machine angkop para sa silicon carbide pagpaputol, alisin ang mga residue sa ibabaw, silicon oxide o silicon nitride pagpaputol, etc. Ang cavity ay angkop para sa 4-8 pulgada na mga sample

Silicon carbide pagpaputol
Paghuhusay ng ibabaw pagkatapos ng pagpaputol
DESCUM
Hard mask layer, bukod sa pagtanggal
Silicon oxide o silicon nitride pagpaputol
Alisin ang optikong resistensya sa pagitan ng mga media
Pagsalakay sa residue sa ibabaw

Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory

Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine supplier

Espesipikasyon

Pinagmulan ng plasma			RF
Kapangyarihan	ICP	_
Kapangyarihan		BIAS	1000W(option)
Ambito ng paggamit			4~8 pulgada
Bilang ng slice na sinusubok ng isang beses			1
Anyo sukat			850mmx900mmx1850mm
Kontrol ng sistema			PLC
Antas ng Automation			Manwal

Pabrika

Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine details

Pakete & Paghahatod

Company Profile

16 taon ng karanasan sa eksport ng makinarya! Maaari naming iprovide sa iyo ang one-stop solution para sa Semiconductor Front End Processes at Equipment!