Industriya ng Semiconductor ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal , China Industriya ng Semiconductor ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal Manufacturers, Suppliers, Factory

Paglalarawan ng Produkto

ICP lab type PR removal Photoresist Alisin makina

ASHING
Pagtanggal ng Polymer
DESCUM
Diyos na pagtanggal ng hard mask layer
Photoresistance pag-aalis matapos ang implantasyon ng babae
Alisin ang optikong resistensya sa pagitan ng mga media
Pagtanggal ng photoresistance sa proseso ng BAW/SAW
Tuwet na pagsisilang ng anti reflective graphic film layer Y
Silicon oxide o silicon nitride pagpaputol
Pagsalakay sa residue sa ibabaw
Paghuhusay ng ibabaw pagkatapos ng pagpaputol
Silicon carbide pagpaputol

Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier

Proseso

Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal factory

Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal details

Bentahe:

Pangunahing pakinabang

Mataas na rate ng degumming: Mataas na densidad ng plasma, mabilis na rate ng degumming
Kasarian: Matatag na reproduktibilidad matapos ang pagproseso ng plasma
Remote plasma: Remote plasma, mababang pinsala sa ions sa wafer
Kinikilalang software: independiyente na pagsusuri at pag-unlad ng software, intuitibong proseso ng animasyon, detalyadong datos at talaksan
Kakayahan sa Pagkakaisa: Maaaring kontrolin ng plasma ang presyon at temperatura sa pamamagitan ng butterfly valve
Saligtaran ng Kaligtasan: Mababang plasma na bumabawas sa pinsala sa produktong discharge.
Serbisyo pagkatapos ng pagsisimula: Mabilis na tugon at sapat na inventory
Pangangontrol ng alikabok: Nakakamit ang mga kinakailangan ng customer.
Punong Teknolohiya: May halos 40% ng mga miyembro ng team ng R&D

Cassette Platform (MD-ST 6100/620)

1. 4 Wafer Carriers
2. Mataas na kompatibility: ang flexibility ng pagsasagawa ng laki ng wafer ay nagdadala ng mataas na kosilyo at kalakasan ng solusyon
3. Mataas na estabilidad ng chamber ng vacuum transfer:
Ang matatanda at maaaring mag-trabaho na disenyo ng transmisyong pamamahagi ay mabilis na ginagamit sa market para sa maraming taon at maikli na kinikilala ng mga customer.
Disenyo ng turntable, maliit na espasyo, siguradong pababawas ng panganib ng PARTICAL
4. Humanized na interface ng operasyon ng software:
Tuwid na humanized na interface ng operasyon ng software, real-time na monitoring ng status ng paggana ng machine;
Komprehensibong alarma at mga punla upang maiwasan ang maling operasyon.
Mataas na kakayahan ng pag-export ng datos, rekord ng iba't ibang proseso ng parameter, at pag-export ng rekord ng produksyon ng produkto.

Robot

1. Isa lang na disenyong pagkuha at paglalagay ng dual wafer ay nagdudulot ng mataas na produktibidad
2. Pagtaas ng efisiensiya ng puwang.

Heating plate

1. Mataas na presisyon na kontrol ng temperatura sa plato ng wafer
Plato ng pagpapaimi ng wafer mula sa temperatura ng silid hanggang 250°C, ang precisions ng kontrol ng temperatura ay ±1°C
Ang plato ng pagpapaimi ng wafer ay nakalibrehan na ng mga propesyonal na instrumento, at ang kaganapan. Sa loob ng ±3°C, siguraduhin ang kaganapan ng pag-aalis ng glue
2. Pagproseso ng dual-wafer sa isang kuwarto
Diseño ng dual-wafer sa isang kuwarto;
Indibidwal na disenyo ng pagpaputong putol para sa bawat wafer, siguraduhin ang bawat wafer. Paligid PR pag-aalis na epekto;
Sa pahintulot ng UPH efficiency, bawasan ang produktong gastos. Malakas na kompatibilidad
3. Kapaki-pakinabang: disenyo ng dalawang piraso ng reaksyon chamber, mataas na produktibidad.

Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture

Espesipikasyon

Pinagmulan ng plasma			RF+BIAS
Kapangyarihan	1000W	1000W
Kapangyarihan		600W	600W
Ambito ng paggamit			4-8 pulgada
Bilang ng slice na sinusubok ng isang beses			isa
Anyo sukat			1140mm x 1050mm x 1620mm
Kontrol ng sistema			Industrial Control System
Antas ng Automation			Manwal

Kaarawan ng Hardware
Uptime/Amaan na oras	≧95%
Promedio ng oras upang ilininis (MTTC)	≦6 oras
Promedio ng oras upang maiayos (MTTR)	≦4 oras
Promedio ng oras sa pagitan ng mga pagkabigo (MTBF)	≧350 oras
Promedio ng oras sa pagitan ng tulong (MTBA)	≧24 oras
Promedio ng wafer sa pagitan ng pagbubuko (MWBB)	≦1 sa 10,000 wafers
Kontrol ng heating plate	50-250°

Report ng pagsubok

Pananaw sa pabrika

Pakete & Paghahatod

Company Profile

Mayroon kaming 16 taong karanasan sa pagsisipad ng kagamitan. Maaari kaming magbigay sa iyo ng isang-tuldok na solusyon para sa Equipments ng Frontend at Back end Package Line ng Semiconductor mula sa Tsina!