Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Home
Tungkol sa Amin
Kagamitan ng MH
Solusyon
Mga Gumagamit sa ibang bansa
Video
Makipag-ugnayan sa amin
product semiconductor industry icp lab type pr removal machine photoresist residual removal-42
Tahanan> Pag-alis ng PR RTP USC
  • Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal
  • Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal
  • Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal
  • Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal
  • Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal
  • Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal
  • Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal
  • Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal
  • Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal
  • Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal
  • Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal
  • Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal

Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal

Paglalarawan ng produkto

ICP lab type PR pagtanggal Photoresist Remover makina

ASHING
Pag-alis ng polimer
DESCUM
Tuyong pag-alis ng matigas na layer ng maskara
Pag-alis ng photoresistance pagkatapos ng pagtatanim ng babaeng ion
Pag-alis ng optical resistance sa pagitan ng media
Pag-alis ng photoresistance sa proseso ng BAW/SAW
Dry cleaning ng anti reflective graphic film layer Y
Silicon oxide o silicon nitride etching
Pag-alis ng nalalabi sa ibabaw
Paglilinis ng ibabaw pagkatapos ng pag-ukit
Silicon carbide etching
Industriya ng semiconductor ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
paraan
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Mga detalye ng Photoresist Residual Removal
Industriya ng semiconductor ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Industriya ng semiconductor ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Kalamangan:

Pangunahing Kalamangan

Mataas na degumming rate: High-density na plasma, mabilis na degumming rate
Katatagan: Pagkatapos ng paggamot sa plasma, mataas na reproducibility
Remote plasma: Remote plasma, mababang ion na pinsala sa wafer
Itinatampok na software: independiyenteng pananaliksik at pagpapaunlad ng software, intuitive na proseso ng animation, detalyadong data at mga talaan
Pagkakapareho: Maaaring kontrolin ng Plasma ang presyon at temperatura sa pamamagitan ng butterfly valve
Salik ng kaligtasan: Ang mababang plasma ay binabawasan ang pinsala sa paglabas ng produkto.
Serbisyo pagkatapos ng benta: Mabilis na tugon at sapat na imbentaryo
Dust control: Matugunan ang mga kinakailangan ng customer.
Pangunahing teknolohiya: Sa halos 40% ng mga miyembro ng R&D team

Cassette Platform (MD-ST 6100/620)

1. 4 Wafer Carrier
2. Mataas na compatibility: ang flexibility ng pagpili ng laki ng wafer ay nagdudulot ng mataas na gastos at kahusayan sa solusyon
3. Mataas na katatagan ng vacuum transfer chamber:
Ang mature at stable na vacuum transmission na disenyo ay maturely na inilapat sa merkado para sa maraming taon at ito ay mahusay na kinikilala ng mga customer.
Ang disenyo ng turntable, compact na espasyo, makabuluhang binabawasan ang panganib ng PARTICAL
4. Nakataong interface ng pagpapatakbo ng software:
Intuitive humanized software operation interface, real-time na pagsubaybay sa katayuan ng pagpapatakbo ng makina;
Comprehensive alarma at fool-proof function upang maiwasan ang maling operasyon.
Napakahusay na function ng pag-export ng data, mga talaan ng iba't ibang mga parameter ng proseso, at pag-export ng mga talaan ng produksyon ng produkto.
Industriya ng semiconductor ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Industriya ng semiconductor ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier

robot

1. Ang isang beses na dual wafer pick at disenyo ng lugar ay nagdudulot ng mataas na produktibidad
2. Pagbutihin ang kahusayan sa espasyo.
Industriya ng semiconductor ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal factory

Plate ng Pag-init

1. High-precision temperature control wafer plate
Wafer heating plate mula sa temperatura ng kuwarto hanggang 250°C, katumpakan ng pagkontrol sa temperatura ±1°C
Wafer heating plate ay na-calibrate ng mga propesyonal na instrumento, at ang pagkakapareho. Sa loob ng ±3°C, tiyakin ang pagkakapareho ng pag-alis ng pandikit
2. Single-chamber dual-wafer processing
Single-chamber dual-wafer na disenyo;
Independent power discharge design para sa bawat wafer, na tinitiyak na ang bawat wafer. Round PR removal effect;
Sa ilalim ng saligan ng pagtiyak sa kahusayan ng UPH, bawasan ang gastos ng produkto. Malakas na compatibility
3. Kapasidad ng produksyon: double-piece design reaction chamber, mataas na kahusayan sa produksyon.
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Paggawa ng Photoresist Residual Removal
Industriya ng semiconductor ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
detalye
Pinagmulan ng PLASMA
RF+BIAS
kapangyarihan
1000W
1000W
600W
600W
Naaangkop na saklaw
4-8 pulgada
Iisang pagpoproseso ng slice count
isa
Mga sukat ng hitsura
1140mm x 1050mm x 1620mm
Kontrol ng system
Sistema ng kontrol sa industriya
Antas ng automation
manwal
Kakayahang Hardware
Uptime/Available time
≧ 95%
Mean time para maglinis (MTTC)
≦6 na oras
Ang ibig sabihin ng oras ng pagkumpuni(MTTR)
≦4 na oras
Ang ibig sabihin ng oras sa pagitan ng mga pagkabigo(MTBF)
≧350 oras
Mean time sa pagitan ng assistant(MTBA)
≧24 oras
Ang ibig sabihin ng ostiya sa pagitan ng sirang(MWBB)
≦1 sa 10,000 wafer
Kontrol ng heating plate
50-250 °
Test Ulat
Industriya ng semiconductor ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Industriya ng semiconductor ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Tingnan ang Factory
Industriya ng semiconductor ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Mga detalye ng Photoresist Residual Removal
Pag-iimpake at Paghahatid
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Paggawa ng Photoresist Residual Removal
Industriya ng semiconductor ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Profile ng Kompanya
Mayroon kaming 16 na taong karanasan sa pagbebenta ng kagamitan. Maaari kaming magbigay sa iyo ng walang-hintong Semiconductor na frontend at back end na solusyon sa Package Line Equipments mula sa China!
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Mga detalye ng Photoresist Residual Removal
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Paggawa ng Photoresist Residual Removal
Industriya ng semiconductor ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal factory

Pagtatanong

product semiconductor industry icp lab type pr removal machine photoresist residual removal-83Pagtatanong product semiconductor industry icp lab type pr removal machine photoresist residual removal-84Email product semiconductor industry icp lab type pr removal machine photoresist residual removal-85WhatsApp product semiconductor industry icp lab type pr removal machine photoresist residual removal-86 WeChat
product semiconductor industry icp lab type pr removal machine photoresist residual removal-87
product semiconductor industry icp lab type pr removal machine photoresist residual removal-88tuktok
×

Kumuha-ugnay