Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Home
Tungkol sa Amin
Kagamitan ng MH
Solusyon
Mga Gumagamit sa ibang bansa
Video
Makipag-ugnayan sa amin
product semiconductor industry tray type  pr removal machine photoresist residual removal-42
Tahanan> Pag-alis ng PR RTP USC
  • Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Photoresist Residual Removal
  • Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Photoresist Residual Removal
  • Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Photoresist Residual Removal
  • Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Photoresist Residual Removal
  • Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Photoresist Residual Removal
  • Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Photoresist Residual Removal
  • Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Photoresist Residual Removal
  • Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Photoresist Residual Removal
  • Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Photoresist Residual Removal
  • Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Photoresist Residual Removal
  • Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Photoresist Residual Removal
  • Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Photoresist Residual Removal

Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Photoresist Residual Removal

Paglalarawan ng produkto

Uri ng tray Photoresist Remover PR removal machine

DESCUM
Paglilinis ng ostiya
Pag-alis ng natitirang pandikit pagkatapos ng basang proseso
Pag-alis ng nalalabi sa ibabaw
Alisin ang natitirang pandikit pagkatapos ng pagkakalantad at pag-unlad
Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Mga detalye ng Photoresist Residual Removal
paraan
Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Tagatustos ng Photoresist Residual Removal
Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Paggawa ng Photoresist Residual Removal
Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Kalamangan:

Pangunahing Kalamangan

Mataas na degumming rate: High-density na plasma, mabilis na degumming rate
Katatagan: Pagkatapos ng paggamot sa plasma, mataas na reproducibility
Remote plasma: Remote plasma, mababang ion na pinsala sa wafer
Itinatampok na software: independiyenteng pananaliksik at pagpapaunlad ng software, intuitive na proseso ng animation, detalyadong data at mga talaan
Pagkakapareho: Maaaring kontrolin ng Plasma ang presyon at temperatura sa pamamagitan ng butterfly valve
Salik ng kaligtasan: Ang mababang plasma ay binabawasan ang pinsala sa paglabas ng produkto.
Serbisyo pagkatapos ng benta: Mabilis na tugon at sapat na imbentaryo
Dust control: Matugunan ang mga kinakailangan ng customer.
Pangunahing teknolohiya: Sa halos 40% ng mga miyembro ng R&D team

Cassette Platform (MD-ST 6100/620)

1. 4 Wafer Carrier
2. Mataas na compatibility: ang flexibility ng pagpili ng laki ng wafer ay nagdudulot ng mataas na gastos at kahusayan sa solusyon
3. Mataas na katatagan ng vacuum transfer chamber:
Ang mature at stable na vacuum transmission na disenyo ay maturely na inilapat sa merkado para sa maraming taon at ito ay mahusay na kinikilala ng mga customer.
Ang disenyo ng turntable, compact na espasyo, makabuluhang binabawasan ang panganib ng PARTICAL
4. Nakataong interface ng pagpapatakbo ng software:
Intuitive humanized software operation interface, real-time na pagsubaybay sa katayuan ng pagpapatakbo ng makina;
Comprehensive alarma at fool-proof function upang maiwasan ang maling operasyon.
Napakahusay na function ng pag-export ng data, mga talaan ng iba't ibang mga parameter ng proseso, at pag-export ng mga talaan ng produksyon ng produkto.
Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Mga detalye ng Photoresist Residual Removal

robot

1. Ang isang beses na dual wafer pick at disenyo ng lugar ay nagdudulot ng mataas na produktibidad
2. Pagbutihin ang kahusayan sa espasyo.
Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Tagatustos ng Photoresist Residual Removal

Plate ng Pag-init

1. High-precision temperature control wafer plate
Wafer heating plate mula sa temperatura ng kuwarto hanggang 250°C, katumpakan ng pagkontrol sa temperatura ±1°C
Wafer heating plate ay na-calibrate ng mga propesyonal na instrumento, at ang pagkakapareho. Sa loob ng ±3°C, tiyakin ang pagkakapareho ng pag-alis ng pandikit
2. Single-chamber dual-wafer processing
Single-chamber dual-wafer na disenyo;
Independent power discharge design para sa bawat wafer, na tinitiyak na ang bawat wafer. Round PR removal effect;
Sa ilalim ng saligan ng pagtiyak sa kahusayan ng UPH, bawasan ang gastos ng produkto. Malakas na compatibility
3. Kapasidad ng produksyon: double-piece design reaction chamber, mataas na kahusayan sa produksyon.
Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Mga detalye ng Photoresist Residual Removal
Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Tagatustos ng Photoresist Residual Removal
detalye
PLASMA
RF
RF
kapangyarihan
ICP
1000w
1000w
BIAS
600w(pagpipilian)
600w(pagpipilian)
Naaangkop na saklaw
4~8 pulgada
4~8 pulgada
Iisang pagpoproseso ng slice count
1
2
Mga sukat ng hitsura
1080x1840x1800mm
1340x2050x1800mm
Kontrol ng system
Sistema ng kontrol sa industriya
Sistema ng kontrol sa industriya
Antas ng automation
awtomatik
awtomatik
Kakayahang Hardware
Uptime/Available time
≧ 95%
Mean time para maglinis (MTTC)
≦6 na oras
Ang ibig sabihin ng oras ng pagkumpuni(MTTR)
≦4 na oras
Ang ibig sabihin ng oras sa pagitan ng mga pagkabigo(MTBF)
≧350 oras
Mean time sa pagitan ng assistant(MTBA)
≧24 oras
Ang ibig sabihin ng ostiya sa pagitan ng sirang(MWBB)
≦1 sa 10,000 wafer
Kontrol ng heating plate
50-250 °
Test Ulat
Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Paggawa ng Photoresist Residual Removal
Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Mga detalye ng Photoresist Residual Removal
Tingnan ang Factory
Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Mga detalye ng Photoresist Residual Removal
Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Tagatustos ng Photoresist Residual Removal
Pag-iimpake at Paghahatid
Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Tagatustos ng Photoresist Residual Removal
Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Tagatustos ng Photoresist Residual Removal
Profile ng Kompanya
Mayroon kaming 16 na taong karanasan sa pagbebenta ng kagamitan. Maaari kaming magbigay sa iyo ng walang-hintong Semiconductor frontend at back end na solusyon sa Package Line Equipments mula sa China!
Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Tagatustos ng Photoresist Residual Removal
Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Paggawa ng Photoresist Residual Removal
Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Paggawa ng Photoresist Residual Removal
Industriya ng semiconductor Tray type PR removal machine Tagatustos ng Photoresist Residual Removal

Pagtatanong

product semiconductor industry tray type  pr removal machine photoresist residual removal-84Pagtatanong product semiconductor industry tray type  pr removal machine photoresist residual removal-85Email product semiconductor industry tray type  pr removal machine photoresist residual removal-86WhatsApp product semiconductor industry tray type  pr removal machine photoresist residual removal-87 WeChat
product semiconductor industry tray type  pr removal machine photoresist residual removal-88
product semiconductor industry tray type  pr removal machine photoresist residual removal-89tuktok
×

Kumuha-ugnay