Reaktif iyon aşındırma kulağa korkutucu bir terim gibi gelse de aslında insanların teknoloji için küçük parçaları brunch boyutunda parçalara dönüştürmek için kullandıkları yöntemdir. Bu küçük parçalar ve parçalar, akıllı telefonlar, bilgisayarlar vb. gibi her gün kullanılan çok çeşitli cihazların temel bileşenleridir. Bu sürecin ana işlevi, küçük ve doğru parçalar oluşturabilmeniz için bir malzemenin bölümlerini çıkarmaktır. Bu makalede reaktif iyon dağlamanın ne olduğunu, diğer plazma kimyasal arıtma yöntemlerine kıyasla RIE ile çalışmanın olumlu ve olumsuz yanlarını tartışacağız; bu süreçte plazma kimyasının rolü; RIE ekipmanını doğru kullanarak nasıl yüksek kaliteli sonuçlar elde edebileceğinizi ve son olarak bir teknoloji aracı olarak yerini nerede alacağını oku xvv.
Reaktif iyon aşındırma, malzeme parçalarını ufalamak için küçük iyonları ve gazı içeren karmaşık bir yöntemdir. Bunu, kesin bir şekil oluşturmak için malzemeyi seçici olarak püskürten yüksek güçlü bir sprey olarak düşünün. Bu iyonların bir malzemenin yüzeyine püskürtülmesini içerir. İyonlar malzemeye çarptıkça onunla reaksiyona girer ve kesilip çıkarılabilecek çok küçük parçalara ayrılırlar. Malzemeyi vakum odası adı verilen, tamamen kapalı ve hava almayan bir tür kutuya koyarsınız. Bu küçük parçacıklar radyo frekansı enerjisiyle üretiliyor ve burada iyonlar oluşuyor.
Reaktif iyon aşındırma, ayrıntılar söz konusu olduğunda en iyilerden biridir. Bu, yüksek hassasiyetli açısal ve kavisli özellikler üretebileceği anlamına gelir ancak bu, sıvı kullanmak yerine gazla yapılır. Bu, bu yöntemle oluşturulan parçaların teknoloji açısından gerçek anlamda amaca uygun olduğu anlamına gelir [1]. Ayrıca bu en hızlı süreçlerden biridir; kısa sürede daha fazla parça üretilebilmektedir. Bu süreç çok hızlı olduğundan belirli bir parçaya büyük talebi olan şirketler için oldukça verimli olabilir.
Ancak reaktif iyon aşındırma işleminin de sorunları vardır. Bazı farklı türlerde bu lazer kesimler yapılamayacağından her tür malzeme için uygun değildir. Ve sahada uygun sıcaklık ve basınçların bulunması gerekir. Doğru koşulların da mevcut olması gerekir, aksi takdirde yeni süreç iyi sonuç vermeyebilir. Tek dezavantajı, diğer aşındırma uygulamalarına göre kurulum maliyetinin yüksek olabilmesidir, bu da bazı işletmeleri toz kaplamadan yararlanmaktan caydırabilir.
Reaktif iyon aşındırma sürecinde plazma kimyası önemli bir yer tutar. Plazmanın ürettiği bu iyonlar malzemenin kimyasal bağlarının kopmasına ve kesilmesine neden olur. Bağlar kırıldığında malzeme küçük parçalara ayrılıyor ve bu parçalar daha sonra bir gaz akışıyla uçup gidiyor. Kimyasal reaksiyon sırasında meydana gelenler, kullanılan gazın türünden etkilenebilir. Örneğin, bir nitrojen gazı düzgün aşındırma sağlayabilir, istenmeyen kalıntılar bırakmadan malzemelerin çıkarılmasına olanak tanırken, bir oksijen gazı ihtiyaca bağlı olarak uygun olabilecek farklı türde aşındırma sağlar.
Reaktif iyon aşındırmayla iyi sonuçlar elde etmek için güçlü proses kontrolü kritik öneme sahiptir. Bu, sıcaklık, basınç, gaz akışı ve iyon enerjileri dahil olmak üzere birçok parametrenin ölçülmesini gerektirir. Stabil bir ortam, aşındırma hattında tutarlı, öngörülebilir sonuçlara katkıda bulunur. Bu değişkenlerden birinin etkin bir şekilde kontrol edilmemesi nihai ürünü etkileyebilir. Ayrıca aşındırma işlemine başlamadan önce malzemenin temizlenmesi ve uygun hazırlık yapılması gerekir. Kazınacak malzemeyi hazırlamak için tüm zaman önceden harcandıysa, bu daha iyi sonuçlara yol açacaktır.
Bunun bir örneği, mikrofabrik endüstrisinde çeşitli teknolojik aletler için çok küçük parçalar oluşturmak amacıyla yaygın olarak kullanılan reaktif iyon aşındırmadır. Grafenin faydalı olduğu şeylerden biri, modern teknoloji için gerekli olan küçük elektronik devrelerin, sensörlerin ve mikroakışkan cihazların imalatıdır. Aynı zamanda, her seferinde bir molekülü tam anlamıyla görebilen, duyabilen, hissedebilen ve hareket ettirebilen küçük cihazlar olan mikro elektromekanik sistemlerin (MEMS) yapımında da kullanılır. Bu MEMS'ler akıllı telefonlar gibi küçük cihazlardan daha büyük araçlara ve hatta tıbbi ekipmanlara kadar birçok uygulamada kullanılmaktadır. Bu işlemler arasında reaktif iyon aşındırma, bu tür ileri teknolojiler için gereken küçük ve hassas özellikleri oluşturabildiği için kritik bir rol oynamaktadır.
Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
Telif Hakkı © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. Tüm Hakları Saklıdır
EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
YOK HAYIR
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA
