Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
EN
Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
Fiyat Al

Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Anasayfa
Hakkımızda
MH Equipment
Çözüm
Yurtdışı Kullanıcılar
Video
Bize Ulaşın
Ana Sayfa> PR kaldırma RTP USC
  • Etçilme ICP Deneysel Plazma Fotoresist Kaldırma Makinesi ile Semikonüktör Wafer'ı Temizleme
  • Etçilme ICP Deneysel Plazma Fotoresist Kaldırma Makinesi ile Semikonüktör Wafer'ı Temizleme
  • Etçilme ICP Deneysel Plazma Fotoresist Kaldırma Makinesi ile Semikonüktör Wafer'ı Temizleme
  • Etçilme ICP Deneysel Plazma Fotoresist Kaldırma Makinesi ile Semikonüktör Wafer'ı Temizleme
  • Etçilme ICP Deneysel Plazma Fotoresist Kaldırma Makinesi ile Semikonüktör Wafer'ı Temizleme
  • Etçilme ICP Deneysel Plazma Fotoresist Kaldırma Makinesi ile Semikonüktör Wafer'ı Temizleme
  • Etçilme ICP Deneysel Plazma Fotoresist Kaldırma Makinesi ile Semikonüktör Wafer'ı Temizleme
  • Etçilme ICP Deneysel Plazma Fotoresist Kaldırma Makinesi ile Semikonüktör Wafer'ı Temizleme
  • Etçilme ICP Deneysel Plazma Fotoresist Kaldırma Makinesi ile Semikonüktör Wafer'ı Temizleme
  • Etçilme ICP Deneysel Plazma Fotoresist Kaldırma Makinesi ile Semikonüktör Wafer'ı Temizleme
  • Etçilme ICP Deneysel Plazma Fotoresist Kaldırma Makinesi ile Semikonüktör Wafer'ı Temizleme
  • Etçilme ICP Deneysel Plazma Fotoresist Kaldırma Makinesi ile Semikonüktör Wafer'ı Temizleme

Etçilme ICP Deneysel Plazma Fotoresist Kaldırma Makinesi ile Semikonüktör Wafer'ı Temizleme

Ücretsiz Teklif Alın
Ürün Açıklaması

ICP Deneysel Plazma Fotoğraf direnci Kaldırma Makinesi

Polimer kaldırma, silikon oksit veya silikon karbür etching'i, etching sonrası yüzey temizliği
ASHING Polimer kaldırma DESCUM Kurutma ile sert maske tabakasının kaldırılması İyon yerleştirmeden sonra foto direncinin kaldırılması Medya arasında optik direncin kaldırılması BAW/SAW sürecinde foto direncinin kaldırılması Anti-yansız grafik film tabakasının kurutma temizliği Silis oksit veya silis nitrit etçilmesi Yüzey artığılarının kaldırılması Etçilme sonrası yüzey temizliği Silis karbür etçilmesi
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Speksiyasyon
Plazma kaynağı
RF+BIAS
Güç
1000W
1000W
600W
600W
Uygulanabilir kapsam
4-8 inç
Tek işlem dilim sayısı
one
Dış görünüş boyutları
1140mm x 1050mm x 1620mm
Sistem Kontrolü
Sanayi kontrol sistemi
Otomasyon Seviyesi
Manuel
Fabrika
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture
Paketleme ve Teslimat
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Şirket Profili
ekipman ihracatında 16 yıllık deneyim! Size tek noktadan Semi-Havada Ön Uç Süreçleri ve Ekipmanlar çözümü sunabiliriz!
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory

Daha Fazla Ürün

Sorgu

Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. All Rights Reserved

Gizlilik Politikası

Sorgu Email WhatsApp Top
×

İLETİŞİME GEÇİN