Grafen ve Karbon Nanoboru Malzemeleri için CVD Cihazı / Yarıiletken cihazı , China Grafen ve Karbon Nanoboru Malzemeleri için CVD Cihazı / Yarıiletken cihazı Manufacturers, Suppliers, Factory

Ürün Açıklaması

Grafen ve karbon nanoboru malzemeleri için CVD ekipmanı

Ekipman, grafen ve nano malzemelerin süreç kaplaması için主要用于 edilir; Polikristalin silikon ve silicon karbürün difüzyonu, oksidasyonu ve ısıl işlemesi.

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment details

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment factory

Speksiyasyon

yapı tarzı	Yatay, tek-boru veya çoklu-boru sistem otomatik kontrol
Uygun olan wafer boyutu	2-8"
Wafer teslimatı ve alma yöntemi	Otomatik kantaleli kuartz ite-çekme tekne, elle çip alma ve serbest bırakma ile birleşiktir.
Maksimum sıcaklık	1050℃
Çalışma Sıcaklığı	400 ℃~850 ℃ sürekli ayarlanabilir
Tek nokta sıcaklık istikrarlılığı	400℃~850℃≤±0.5℃/24h
Sistem sınırı vakum	1Pa'dan daha iyi
vakum pompalama hızı	Limit vakuma pompalama süresi < 15Dk
çalışma basıncı aralığı	5Pa'dan 1 × 105Pa sürekli ayarlanabilir
Güç Kaynağı	3 fazlı 5-şer 380V±10%, 50Hz
Soğutma suyu	2~4Kgf/cm², 8L/dk;

Paketleme ve Teslimat

Şirket Profili

Ekipman satışında 16 yıllık deneyimimiz vardır. Sıra dışı Birleşik Devletleri ön ve arka ucunda Yüzdelik Hattı ekipmanları profesyonel çözüm sunabilirsiniz Çin'den