Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

ana sayfa
Hakkımızda
MH Equipment
Çözüm
Yurtdışı Kullanıcılar
video
Bize Ulaşın
Ana Sayfa> PVD CVD ALD RIE ICP EBEAM
  • Indüktif Koplamalı Plazma Oyma Sistemi ( ICP ) Yarıiletken ekipmanı
  • Indüktif Koplamalı Plazma Oyma Sistemi ( ICP ) Yarıiletken ekipmanı
  • Indüktif Koplamalı Plazma Oyma Sistemi ( ICP ) Yarıiletken ekipmanı
  • Indüktif Koplamalı Plazma Oyma Sistemi ( ICP ) Yarıiletken ekipmanı
  • Indüktif Koplamalı Plazma Oyma Sistemi ( ICP ) Yarıiletken ekipmanı
  • Indüktif Koplamalı Plazma Oyma Sistemi ( ICP ) Yarıiletken ekipmanı
  • Indüktif Koplamalı Plazma Oyma Sistemi ( ICP ) Yarıiletken ekipmanı
  • Indüktif Koplamalı Plazma Oyma Sistemi ( ICP ) Yarıiletken ekipmanı
  • Indüktif Koplamalı Plazma Oyma Sistemi ( ICP ) Yarıiletken ekipmanı
  • Indüktif Koplamalı Plazma Oyma Sistemi ( ICP ) Yarıiletken ekipmanı
  • Indüktif Koplamalı Plazma Oyma Sistemi ( ICP ) Yarıiletken ekipmanı
  • Indüktif Koplamalı Plazma Oyma Sistemi ( ICP ) Yarıiletken ekipmanı

Indüktif Koplamalı Plazma Oyma Sistemi ( ICP ) Yarıiletken ekipmanı

Ürün Açıklaması
Indüktif olarak bağlı plazma etching (icp) sistemi
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment details
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment supplier
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment factory
İşlem sonucu

Kuyruk / silikon / ızgara etching

BR maskesi kullanılarak kuyruk veya silikon malzemelerinin etching'i, ızgara dizisi deseninin en ince çizgisinin 300nm'ye kadar olduğu ve desenin yan duvar dikliğinin > 89°'ye yakın olduğu, bu da 3B görüntüleme, mikro optik cihazlar, optoelektronik iletişim vb. alanlarda kullanılabilir hale getirir
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment factory

Bileşik / yarı iletken etching

Örnek yüzey sıcaklığının doğru kontrolü, GaN tabanlı, GaAs, InP ve metal malzemelerinin etkileme morfolojisini iyi kontrol edebilir. Mavi LED cihazları, lazerler, optik iletişim ve diğer uygulamalar için uygunuktur.
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment manufacture

Silikon tabanlı malzeme kazımı

Silikon tabanlı malzemelerin etkilemesi için uygundur, örneğin Si, SiO2 ve SiNx. 50nm üzerindeki silikon çizgi etkilemesini ve 100um altındaki silikon derin delik etkilemesini gerçekleştirebilir.
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment factory
Speksiyasyon
Proje yapılandırması ve makine yapısı şeması
Ürün
MD150S-ICP
MD200S-ICP
MD150CS-ICP
MD200CS-ICP
MD300C-ICP
Ürün Boyutu
≤6 inç
≤8 inç
≤6 inç
≤8 inç
Özel≥12inç
SRF Güç kaynağı
0~1000W\/2000W\/3000W\/5000W Ayarlanabilir, otomatik eşleşme\,13.56MHz\/27MHz
BRF Güç kaynağı
0~300W\/0~500W\/0~1000WAyarlanabilir, otomatik eşleşme,2MHz\/13.56MHz
Moleküler Pomp
Korozyon karşıtı : 600\/1300 (L\/s)\/Özel tasarım
Korozyon dayanıklı:600\/1300 (L.\/s)\/Özel tasarım
600\/1300(L\/s) \/Özel tasarım
Foreline pompa
Mekanik pompa / kuru pompa
Korozyon dirençli kuru pompa
Mekanik pompa / kuru pompa
Ön pompa
Mekanik pompa / kuru pompa
Mekanik pompa / kuru pompa
İşlem basıncı
Denetlenmeyen basınç/0-0.1/1/10Torr denetlenen basınç
gaz tipi
H2/CH4/O2/N2/Ar/SF6/CF4/
CHF3/C4F8/NF3/NH3/C2F6/Özel
(En fazla 12 kanal, korozif ve zehirli gaz olmadan)
H2/CH4/O2/N2/Ar/SF6/CF4/CHF3/ C4F8/NF3/NH3/C2F6/Cl2/BCl3/HBr/
Özel (En fazla 12 kanal)
gaz aralığı
0~5sccm/50sccm/100sccm/200sccm/300sccm/500sccm/1000sccm/Özel
YükKilidi
Evet/Hayır
Evet
Örnek sıcaklık kontrolü
10°C~OdaSıcaklığı/-30°C~150°C/Özel
-30°C~200°C/Özel
Arka helyum soğutma
Evet/Hayır
Evet
İşlem boşluk kaplama
Evet/Hayır
Evet
Boşluk duvarı sıcaklık kontrolü
Hayır/OdaSıcaklığı-60/120°C
OdaSıcaklığı~60/120°C
Kontrol Sistemi
Otomatik/özel
Oksitlenme malzemesi
Silikon tabanlı: Si/SiO2/
SiNx/ SiC.....
Organik malzemeler: PR/Organik
film......
Silikon tabanlı: Si/SiO2/SiNx/SiC
III-V: InP/GaAs/GaN......
IV-IV: SiC
II-VI: CdTe......
Manyetik malzeme / aleys malzeme
Metalik malzemeler: Ni\/Cr\/Al\/Cu\/Au...
Organik malzemeler: PR\/Organik film......
Silikon derin oksidasyon
Paketleme ve Teslimat
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment supplier
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment details
Şirket Profili
Ekipman satışında 16 yıllık deneyimimiz vardır. Sıra dışı Birleşik Devletleri ön ve arka ucunda Yüzdelik Hattı ekipmanları profesyonel çözüm sunabilirsiniz Çin'den
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment supplier

Sorgu

Sorgu Email WhatsApp Top
×

İLETİŞİME GEÇİN