Bileşik semikonüktörler için Masaüstü RTP Sistemi SlC LED ve MEMS , China Bileşik semikonüktörler için Masaüstü RTP Sistemi SlC LED ve MEMS Manufacturers, Suppliers, Factory

Ürün Açıklaması

Hızlı Termal İşleme

Bileşik semiyarıtkabuller için güvenilir RTP ekipmanı sağlayın、SlC、LED ve MEMS

Endüstri Uygulamaları

* Oksit, nitrit büyüme
* Ohmic temas hızlı aleşe
* Silisit aleşe erime
* Oksidasyon geri akışı
* Galium arsenide işlemi
* Diğer hızlı ısıtma işleme süreçleri

Rapid Thermal Processing Desktop RTP System for compound semiconductors SlC LED and MEMS details

Ürün Avantajları

1. İşlem aralığı 200-1250 ℃'yi kapsar
2. Güçlü bir sıcaklık alanı yönetimi sistemi
3. Özel RTP algoritması
4. Profesyonel TC Wafer kalibrasyon aracı

Özellik

* Infradöv halojen lamba boru ısıtma, soğutma için hava soğutma kullanılır;
* Lambanın gücü için PlD sıcaklık kontrolü, sıcaklık artışını doğru bir şekilde kontrol edebilir ve iyi tekrarlanabilirlik ve sıcaklık eşitliğini sağlar;
* Malzeme girişi WAFER yüzeyinde ayarlanmıştır, bu da annealing sürecinde soğuk nokta üretimini önlemeye ve ürünün iyi sıcaklık eşitliğini sağlamaya yarar;
* Hem atmosferik hem de vakum işleme yöntemleri seçilebilir, önceden temizleme ve body saf-Laştırılması yapılır;
* İki küme proses gazı standarttır ve maksimum 6 kümeye kadar genişletilebilir;
* Ölçülebilir tek kristal silikon numunesinin maksimum boyutu 12 inç (300x300 MM);
* Güvenli sıcaklık açılım koruması, sıcaklık denetleyici açılım izin koruması ve cihaz acil durum durdurma güvenliği koruması tamamen uygulanarak aletin güvenliğini sağlar;

20. derece eğrilerinin çakışması

Rapid Thermal Processing Desktop RTP System for compound semiconductors SlC LED and MEMS manufacture

850 ℃ de sıcaklık kontrolü için 20 eğri

Rapid Thermal Processing Desktop RTP System for compound semiconductors SlC LED and MEMS factory

20 ortalama sıcaklık eğrisinin çakışması

1250 ℃ sıcaklık kontrolü

Rapid Thermal Processing Desktop RTP System for compound semiconductors SlC LED and MEMS supplier

RTP sıcaklık kontrolü 1000 ℃ süreç

960 ℃ süreç, kızılötesi pirometre tarafından kontrol edilir

LED süreç verisi

RTD Wafer, özel işleme tekniklerini kullanarak bir waferin yüzeyinde belirli konumlarda sıcaklık sensörleri (RTDs) yerleştiren bir sıcaklık sensörüdür ve bu da waferin yüzey sıcaklığının gerçek zamanlı ölçümünü sağlar.
Waferin yüzeyindeki belirli konumlardaki gerçek sıcaklık ölçümleri ve waferin genel sıcaklık dağılımı RTD Wafer aracılığıyla elde edilebilir; Ayrıca, ısı işleme süreci sırasında waferlerdeki geçici sıcaklık değişikliklerinin sürekli izlenmesi için de kullanılabilir.