Yarı iletken endüstrisi ICP laboratuvar türü PR kaldırma makinesi Fotoresist Kalıntı Kaldırma , China Yarı iletken endüstrisi ICP laboratuvar türü PR kaldırma makinesi Fotoresist Kalıntı Kaldırma Manufacturers, Suppliers, Factory

Ürün Açıklaması

ICP laboratuvar türü PR kaldırma Foto direnç Kaldırıcı makinesi

Külleme
Polimer kaldırma
DESCUM
Sert maskelayer kurutma kaldırma
Kadın iyon ekiminden sonra fotoğraf direncinin kaldırılması
Ortamlar arasındaki optik direnç kaldırma
BAW/SAW işleminde foto direnci kaldırma
Yansıma engel grafik film tabakasının kuru temizliği
Silis oksit veya silis nitrit etçilmesi
Yüzey artığı kaldırma
Etçilme sonrası yüzey temizliği
Siliskarbür etçilmesi

Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier

Süreç

Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal factory

Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal details

Avantaj:

Temel avantaj

Yüksek yağmur oranı: Yüksek yoğunlukta plazma, hızlı yağmur oranı
Dürüstlük: Plazma tedavisinden sonra yüksek yeniden üretime kapabilirlik
Uzaktan plazma: Uzaktan plazma, wafera düşük iyon hasarı
Özellikli yazılım: Yazılımın bağımsız araştırması ve geliştirilmesi, sezgisel süreç animasyonu, ayrıntılı veriler ve kayıtlar
Birlikte olma: Plazma, kelebek vanası aracılığıyla basıncı ve sıcaklığı kontrol edebilir
Güvenlik faktörü: Düşük plazma ürün çıkışı hasarını azaltır.
Son satış hizmeti: Hızlı yanıt ve yeterli stok
Toz kontrolü: Müşteri gereksinimlerini karşılar.
Temel teknoloji: Yaklaşık %40'u R&D ekibinde olan üyeler

Kaset Platformu (MD-ST 6100/620)

1. 4 Wafır Taşıyıcı
2. Yüksek uyumluluk: wafır boyutu seçiminin esnekliği, maliyet ve çözüm verimliliğinde yüksektir
3. Yüksek stabilite vakum transfer odası:
Olgun ve stabil vakum aktarım tasarımı, pazarda birçok yıldır olgun bir şekilde uygulanmış ve müşteriler tarafından iyi kabul edilmiştir.
Döner tablo tasarımı, kompakt alan, PARÇACIK riskini önemli ölçüde azaltır
4. İnsan merkezli yazılım işlem arabirimi:
Düzenli insan merkezli yazılım işlem arabirimi, makinenin çalışma durumunun anlık izlemesi;
Kapsamlı uyarı ve hata önleme fonksiyonları yanlış işlemi önlemek için.
Güçlü veri ihracat fonksiyonu, çeşitli süreç parametrelerinin kayıtları ve ürün üretim kayıtlarının ihracatı.

Robot

1. Tek seferde çift wafır alma ve yerleştirme tasarımı yüksek üretkenliğe sahiptir
2. Uzay verimliliğini geliştirin.

Isıtma plağı

1. Yüksek hassasiyetli sıcaklık kontrolü wafer plakası
Wafer ısıtma plakası oda sıcaklığından 250°C'ye kadar, sıcaklık kontrol doğruluğu ±1°C
Wafer ısıtma plakası profesyonel aletlerle kalibrasyon yapılmıştır ve birlikte均匀lik içinde ±3°C, yapıştırıcı kaldırma uniformitesini garanti altına alır
2. Tek odalı çift-wafer işleme
Tek odalı çift-wafer tasarımı;
Her wafer için bağımsız güç salınımı tasarımı, her waferin etrafındaki PR kaldırma etkisini sağlar;
UPH verimliliği güvence altına alınarak ürün maliyetini düşürün. Güçlü uyumluluk
3. Üretim kapasitesi: Çift-parça tasarım reaksiyon odası, yüksek üretim verimliliği.

Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture

Speksiyasyon

Plazma kaynağı			RF+BIAS
Güç	1000W	1000W
Güç		600W	600W
Uygulanabilir kapsam			4-8 inç
Tek işlem dilim sayısı			one
Dış görünüş boyutları			1140mm x 1050mm x 1620mm
Sistem Kontrolü			Sanayi kontrol sistemi
Otomasyon Seviyesi			Manuel

Donanım Yeteneği
Çalışma Süresi / Kullanılabilir Süre	≧95%
Ortalama Temizlik Zamanı (MTTC)	≦6 saat
Ortalama Onarım Zamanı (MTTR)	≦4 saat
Ortalama Arızaarası Süre (MTBF)	≧350 saat
Yardımcı arasındaki ortalama süre（MTBA）	≧24 saat
Kırılan wafer arasındaki ortalama（MWBB）	≦10.000 waferde 1
Isıtma plakası kontrolü	50-250°

Test raporu

Fabrika Görünümü

Paketleme ve Teslimat

Şirket Profili

Ekipman satışında 16 yıllık deneyimimiz bulunmaktadır. Sizi Çin'den Semiconductor ön ve arkadaşı Paketleme Hattı Ekipmanları için tek noktadan çözüm sunabiliriz!