ما هي استخدامات مفرن التحلل السريع في عملية تصنيع الوافر؟

تستخدم مفرننة التلدين السريع مصباح هالوجين تحت الأحمر كمصدر للحرارة لتسخين المادة إلى درجة الحرارة المطلوبة من خلال تسخين سريع، وذلك بهدف تحسين البنية البلورية وخواصها البصرية الإلكترونية.

تشمل ميزاتها الكفاءة العالية، توفير الطاقة، درجة عالية من التلقائية وتسخين موحد.

بالإضافة إلى ذلك، فإن مفرن التلدين السريع يتمتع بدقة عالية في التحكم بالحرارة وتجانس الحرارة، مما يمكنه من تلبية احتياجات العمليات المعقدة المختلفة.

يستخدم مفرن التلدين السريع نظام تحكم حاسوبي متقدم، مقترنًا بتقنية التحكم في درجة الحرارة باستخدام PID المغلق، لضمان دقة عالية في التحكم بالحرارة وتجانسها.

يتم تحقيق معدل تسخين سريع جدًا من خلال مصادر حرارية فعالة مثل مصابيح الأشعة تحت الحمراء الهالوجينية، حيث يتم تسخين الشريحة بسرعة إلى درجة حرارة محددة مسبقًا للتخلص من بعض العيوب في الشريحة وتحسين هيكلها البلوري وخواصها الضوئية الإلكترونية.

إن هذا التحكم الدقيق جدًا في درجة الحرارة مهم للغاية لجودة الشريحة ويمكن أن يحسن بشكل فعال أداء الشريحة وموثوقيتها.

في عملية تصنيع الشرائح، تشمل تطبيقات مفرن التلدين السريع ما يلي ولكنها لا تقتصر عليه:

1. تحسين بنية البلورة: يساهم درجة الحرارة العالية في إعادة ترتيب بنية البلورة، والتخلص من عيوب الشبكة وتحسين تنظيم البلورات، مما يحسن导IVITYالنوعية التوصيل الإلكتروني للمواد شبه الموصلة.

2. إزالة الشوائب: يمكن للتحميص السريع RTP عند درجات حرارة عالية أن يعزز من انتشار الشوائب خارج بلورات شبه الموصل وتقليل تركيز الشوائب.

يساعد هذا على تحسين الخصائص الإلكترونية لأجهزة شبه الموصلات وتقليل مستويات الطاقة أو تشتيت الإلكترونات الناتجة عن الشوائب.

3. إزالة القاعدة: في عملية CMOS، يمكن استخدام أفران التحميص السريع لإزالة مواد القاعدة، مثل أكسيد السيليكون أو نيتريد السيليكون، لتشكيل أجهزة SOI (عازل على السيليكون) فائقة الرقة.