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Entfernen Sie den Fotolack mit Plasma von der Oberfläche des Wafers und entfernen Sie den Fotolack vom Halbleiter

2024-12-11 13:27:39
Entfernen Sie den Fotolack mit Plasma von der Oberfläche des Wafers und entfernen Sie den Fotolack vom Halbleiter
Entfernen Sie den Fotolack mit Plasma von der Oberfläche des Wafers und entfernen Sie den Fotolack vom Halbleiter

Minder-Hightech ist ein Halbleiterhersteller. Halbleiter sind wichtige Komponenten vieler Dinge, die unser modernes Leben ausmachen, wie etwa Mobiltelefone und Computer. Die Herstellung von Halbleitern umfasst mehrere Schritte, aber der erste Schritt besteht darin, ein Muster auf einer flachen Oberfläche, einem sogenannten Wafer, zu erstellen.

Um dieses Muster zu erzeugen, bringen wir ein spezielles Material auf dem Wafer auf. Diese Substanz wird als Fotolack bezeichnet. Nachdem wir den Fotolack aufgetragen haben, setzen wir ihn dem Licht aus. Unter dem Licht wird ein Bereich des Fotolacks gehärtet und verstärkt. Die Schattenbereiche bleiben weich und können weggewischt werden.

Nachdem wir das gewünschte Muster auf dem Wafer erhalten haben, muss der Fotolack von den Bereichen entfernt werden, in denen wir die weitere Bearbeitung durchführen werden. Hier Plasma-Reiniger kommt im wahrsten Sinne des Wortes ins Spiel.

Plasmabasierte Methoden zur Entfernung von Fotolack

Plasma ist ein Gaszustand mit hohem Energieniveau, der auf eine hohe elektrische Ladung zurückzuführen ist. Und dieses aktivierte Gas ist sehr nützlich, um den Fotolack von der Waferoberfläche zu entfernen. Durch Plasma kann der Fotolack spröde werden und seine Reinigung wird wesentlich einfacher.

Wir verfügen über zwei verschiedene Techniken zur Entfernung von Fotolack unter Verwendung von Plasma: Trockenätzen und Veraschen.

Das Trockenätzen: Bei dieser Technik interagiert das eigentliche Plasma mit dem Fotolack. Das Plasma reagiert dort mit dem Fotolack, wo es in Kontakt kommt. Diese Reaktion zersetzt den Fotolack und wandelt ihn in Gas um. Diese gasförmige Substanz kann anschließend von der Waferoberfläche entfernt werden, wodurch die Bereiche freigelegt werden, die wir reinigen und für den weiteren Prozess verfügbar machen müssen.

Veraschung – Dies ist eine andere Vorgehensweise, bei der nicht reaktives Plasma für den Fotolack verwendet wird. Das Plasma zertrümmert den Fotolack stattdessen in winzige, kleine Stücke. Dann können diese kleinen Stücke vom Wafer abgewaschen werden. Dieser Ansatz ist geeignet und schützt den Wafer, während der unnötige Fotolack entfernt wird.

Reaktives Plasma zum Entfernen von Fotolack

Plasma-Oberflächenbehandlung ist ein sehr leistungsfähiges Werkzeug, mit dem wir den härtesten Fotolack vom Wafer entfernen können. Plasma ist an sich schon unglaublich, aber das Beste daran ist, dass wir es in ein superselektives Mittel verwandeln können. Das heißt, es kann so eingestellt werden, dass es nur spezifisch mit dem Fotolack reagiert, nicht mit den anderen Materialien darunter.

Beispiel: Wenn wir ein Muster auf dem Wafer haben, bei dem Metall unter dem Fotolack platziert ist, können wir eine Art Plasma verwenden, das nur mit dem Fotolack reagiert. So können wir den Fotolack wegätzen, ohne das darunterliegende Metall zu beschädigen. Dies ist sehr wichtig, da alle Teile des Wafers während des Prozesses ihre Integrität bewahren müssen.

Die Plasmatechnik zum Entfernen von Fotolack

Minder-Hightech verwendet modernste Plasmatechnologie zum Ablösen des Fotolacks von unseren Wafern. Dadurch können wir fehlerfreie Halbleiter von hoher Qualität herstellen.

Schnell, auf Ihre Bedürfnisse anpassbar Unsere Systeme sind so konzipiert, dass sie sich nahtlos in Ihren Arbeitsablauf integrieren lassen. Das bedeutet, dass wir den Fotolack in kurzer Zeit entfernen können. Und weil wir schnell sind, erfüllen wir die gesamte Nachfrage unserer Kunden und liefern ihnen großartige Produkte, wenn sie sie brauchen.

Doch unsere Plasmasysteme sind nicht nur effizient, sondern auch sehr präzise. Diese Präzision ermöglicht es uns, nur den Fotolack selbst zu entfernen. Unsere Technologie verhindert, dass alle anderen Teile des Wafers durch unseren Prozess beschädigt werden, und das können wir uns nicht leisten. Dieses methodische Vorgehen ist für die Qualität der von uns hergestellten Halbleiter umso wichtiger.

Plasmainduzierte Fotolackentfernung auf Halbleitern

Kurz gesagt ist Plasma eine Superkraft, die es uns ermöglicht, Fotolack auf hochwirksame Weise von der Waferoberfläche zu entfernen. Wir bei Minder-Hightech wenden die neueste und beste Plasmatechnologie an, um Halbleiter in exakt fehlerfreier Qualität herzustellen. Wenn es um Plasmasysteme geht, werden unsere Lösungen so hergestellt, dass sie Geschwindigkeit und Genauigkeit in Einklang bringen und gleichzeitig sehr effizient sind. Das bedeutet, dass wir die Anforderungen unserer Kunden erfüllen und fehlerfreie Qualitätsprodukte liefern können. Das soll den Prozess der Halbleiterherstellung verbessern, da wir Plasmaentfernung Technologie, die unsere Halbleiter so gut wie möglich macht, damit alle Arten von elektronischen Geräten zuverlässige Gadgets sind.

 


Inhaltsverzeichnis

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