Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Startseite
Über uns
MH Ausrüstung
Lösung
Nutzer im Ausland
Video
Kontaktieren Sie uns
Startseite> Maskenalignierer
  • Ausrichter/Ausrichtungsmaschine Photolithografie
  • Ausrichter/Ausrichtungsmaschine Photolithografie
  • Ausrichter/Ausrichtungsmaschine Photolithografie
  • Ausrichter/Ausrichtungsmaschine Photolithografie
  • Ausrichter/Ausrichtungsmaschine Photolithografie
  • Ausrichter/Ausrichtungsmaschine Photolithografie
  • Ausrichter/Ausrichtungsmaschine Photolithografie
  • Ausrichter/Ausrichtungsmaschine Photolithografie
  • Ausrichter/Ausrichtungsmaschine Photolithografie
  • Ausrichter/Ausrichtungsmaschine Photolithografie
  • Ausrichter/Ausrichtungsmaschine Photolithografie
  • Ausrichter/Ausrichtungsmaschine Photolithografie

Ausrichter/Ausrichtungsmaschine Photolithografie

Produktebeschreibung
Maskenausrichter Lithografiegerät
Maskenausrichter wird hauptsächlich für die Entwicklung und Produktion von kleinen und mittleren integrierten Schaltkreisen, Halbleiterkomponenten, Optoelektronikgeräten, Oberflächenakustikwellengeräten, Dünnschichtschaltkreisen und Leistungshalbleiterschaltungen verwendet
Masken-Aligner Auch bekannt als: Maskenanpassungsbelichtungsgerät, Belichtungssystem, Lithographiesystem usw., ist die Kernausstattung zur Herstellung von Chips. Es verwendet eine Technologie ähnlich der Fotodrucktechnik, um feine Muster von der Maske mittels Lichtbelichtung auf den Siliziumwafer zu drucken.
Hauptsächlich zusammengesetzt aus: Präzisionsanpassungstisch, Zwei-Augen-getrenntes-Blickfeld-Senkrecht-Mikroskop, Zwei-Augen-getrenntes-Blickfeld-Horizontalmikroskop, Digitalkamera, Computerbildspeichersystem, Mehrpunkt-Lichtquelle (Fliegenauge) Belichtungskopf, PLC-Steuerungssystem, Pneumatisches System, Vakuumsystem, direkt gekoppelter Vakuumpumpe, Sekundär-Antivibrationsarbeitstisch und Zubehörkasten.
Aligner /Alignment Machine photolithography manufacture
Aligner /Alignment Machine photolithography factory
Eigenschaften
1. Hochgradige Gleichmäßigkeit Fliegenaugen-Belichtungskopf / Luftkissen-Ausrichtungsmechanismus / zuverlässiges Vakuumbefestigungsbelichtung. Hohe Auflösung.
2. Ausrichtungsmethode durch Maske, bleibt stabil und Substrat-Einspeisung, was die Konsistenz der Führungsschwerkraft und der Kraft sicherstellt.
3. Verwendung lückenloser Linearführung, hohe Genauigkeit, hohe Geschwindigkeit.
4. Alle Modelle sind geeignet, mit allen Standard-Photoresisten zu arbeiten, wie AZ, Shipley, SU 8.
5. Alle Modelle: Die Musterqualität, die vom System auf das Substrat übertragen wird, sollte bei 5 Maskenanwendungen dieselbe sein wie die Musterqualität nach der Anwendung der ersten Maske.
6. Belichtungszeit ist zwischen 1 Sekunde und 1 Stunde einstellbar. Ausrichtungsgenauigkeit 1 µm
Aligner /Alignment Machine photolithography supplier
Aligner /Alignment Machine photolithography details
Aligner /Alignment Machine photolithography details
Aligner /Alignment Machine photolithography factory
Aligner /Alignment Machine photolithography manufacture
Aligner /Alignment Machine photolithography details
Aligner /Alignment Machine photolithography factory
Aligner /Alignment Machine photolithography factory
Aligner /Alignment Machine photolithography manufacture
Aligner /Alignment Machine photolithography details
Spezifikation
Modell
MD-G25A
MD-G25D
MD-G31

MD-G33



Belichtungstyp
eine Seite

Doppelseitige Ausrichtung und doppelseitige Belichtung



Expositionsmodus
Kontakt hart, weich und nicht-kontaktierende Proximität




Belichtungskopf-Anzahl
1 Belichtungskopf

2 Belichtungskopf



Art der Lichtquelle
GCQ350 kugelförmige Quecksilberlampe



LED-UV-Belichtungskopf

Kühlmethode
Luftkühlung




Belichtungsfläche
Φ100 mm
110×110mm
Φ100 mm

150mm×150mm



Expositionsmodus
Kompatibel mit kontakt hart, weich




Belichtungsungleichheit
Φ100mm<±3%<>
≤ ± 3%




Belichtungsauflösung
2μm
1 μm




Strahlintensität (365 nm)
≥6mw/cm²
≤40mw/cm2
≥5mw/cm2

0~30mw/cm2



Strahlausgleich
≤±4%
≤ ± 3%




Maximaler Abweichungswinkel von UV-Licht




Beleuchtungsbereich
≤Φ117mm
Φ117mm
≤Φ117mm

Vorder- und Rückseite ≥ Φ115mm



Kompensationsmodus für Winkelfehler
Kugelförmige automatische Kompensation

Automatische Eliminierung

3-Punkt-Automatische-Kompensation


Die Bewegung der X- und Y-Achsen
±4mm
±5mm
±4mm

±5 mm



Die Bewegung des θ
±3°
≤5°
≤±5º

≤0,5°



XYZ Substratverschiebungsauflösung
0,5µm
0,3µm
0,3µm

0,01µm



Mikroskop-System
Zwei Einzelröhrenmikroskope / Zwei CCD-Kameras




Anzeigegröße
15 Zoll




Auflösung des Bildgebungssystems
2µm
1,5µm
1,5µm

1,5µm



Messabstand zwischen Maske und Substrat
0,5 µm
0,3 µm




Diagonale Ausmessung der CCD-Zieloberfläche
1/3, (6mm)



40mm~110mm

Größe der Aufstellungstabelle
≤ Quadrat 5*5 Zoll (anpassbare Spezifikationen)




Größe der Substrate
Φ 100mm oder 100*100mm Quadrat
60*49,5mm Quadrat
2”-4”

1"x1"-5"x5"



Substratdicken
1-3 mm
≤5 mm
1-3 mm

≤5 mm



Vakuumpumpe
Ölfrei stumm (-0,07~-0,08 MPa)




Sauerstofffreie komprimierte Luft
≥0,4 MPa




Stromversorgung
AC 220V±10% 50HZ 1,5KW




Reinraumklasse
Klasse 100




Reinraumtemperatur
25℃±2℃




Relative Feuchte des Reinraums
≤60%




Schwingungsamplitude des Reinraums
≤4μm




Gerätgröße
1300 ×720×1600mm


1500 ×800×1600mm


Gewicht der Ausrüstung
200KG


280 kg


Die Herstellung eines hochpräzisen Ausrichtungssystems erfordert nahezu perfekte präzise mechanische Verfahren. Ein weiteres technisches Problem des Ausrichtungssystems ist das Ausrichtungsmikroskop. Um das Sichtfeld des Mikroskops zu erweitern, verwenden viele hochwertige Lithografiegeräte LED-Beleuchtung. Es gibt zwei Ausrichtungssysteme mit Fokussierungsfunktion. Sie bestehen hauptsächlich aus zwei Okularen und zwei Sichtfeldern, die auf den Hauptkörper des Mikroskops ausgerichtet sind, einem Paar Okulare und einem Paar Objektive (Lithografiegeräte bieten Benutzern normalerweise Okulare und Objektive mit unterschiedlicher Vergrößerung an). Die Funktion des CCD-Ausrichtungssystems besteht darin, die Ausrichtungszeichen von Maske und Probe zu vergrößern und sie auf dem Monitor darzustellen.
Aligner /Alignment Machine photolithography factory
Aligner /Alignment Machine photolithography factory
Die Werkstückbühne ist ein Schlüsselteil der Lithografie-Maschine, die aus der Gesamt motionsbühne für Maske und Probe (XY), der relativen motionsbühne für Maske und Probe (XY), der Drehbühne, dem Proben-Ausgleichsmechanismus, dem Proben-Fokussierungsmechanismus, der Waferbühne, der Maskenklammer und der herausziehbaren Maskenbühne besteht. Der Ausgleichsmechanismus für die Probe umfasst einen Kugelsitz und eine Halbkugel. Im Ausgleichsprozess wird zunächst Druckluft auf den Kugelsitz und die Halbkugel angewendet, und dann bewegen sich der Kugelsitz, die Halbkugel und das Probenstück nach oben durch das Fokusrad, so dass das Probenstück gegen die Maske ausgerichtet werden kann. Anschließend schaltet das dreiwegige Ventil mit zwei Positionen den Kugelsitz und die Halbkugel auf Vakuum, um sie zu sperren und den Ausgleichszustand aufrechtzuerhalten.
Aligner /Alignment Machine photolithography details
Aligner /Alignment Machine photolithography supplier
Aligner /Alignment Machine photolithography factory
Aligner /Alignment Machine photolithography details
Aligner /Alignment Machine photolithography factory



Minder-Hightech bringt Ihnen eine fortschrittliche Technologie für die Fotolithografie durch den Ausrichter/Ausrichtungsmaschine.

 

Kämpfen Sie mit ungenügender Genauigkeit beim Drucken von Schaltkreisen auf Ihren elektronischen Produkten? Mit dem Aligner/Alignment-Maschine von Minder-Hightech können Sie sicher sein, dass Sie eine hohe Präzision bei der Fertigung Ihrer gedruckten Schaltkreise erreichen.

 

Mit diesem revolutionären Gerät können Sie nahtlos ein hochaufgelöstes Bild mittels Photolithografie auf ein Produkt übertragen. Diese Maschine garantiert Genauigkeit durch ein System zur Ausrichtung des Materials zum Bild.

 

Nachdem die Bilder gedruckt und hochgeladen wurden, berechnet die Maschine die erforderliche Belichtungszeit und wie das Material mit den Bildern ausgerichtet wird. Diese Berechnung erfolgt mithilfe der neuesten Computersoftware, die aktualisiert werden kann, um mit der technologischen Entwicklung in der Produktionssparte Schritt zu halten.

 

Es ermöglicht es Ihnen, einen breiten Bereich herzustellen, einschließlich Mikroschaltkreise, Hochfrequenz- (HF-) Schaltungen und eingebaute Schaltungen. Die Einheit kann durch die Hinzufügung verschiedener komplementärer Verfahren wie chemisches Ätzen und Galvanisieren die beste Ätztiefe, Spurbreite und Lagegenauigkeit von Schicht zu Schicht erzielen.

 

Der Vorteil unseres Produkts liegt in seiner Fähigkeit, eine hohe Ausrichtungsgenauigkeit zu erreichen, was sichergestellt, dass Muster mit großer Präzision auf dem Material positioniert sind. Sie können bequem viele komplexe Designs ohne jegliche Verformungen drucken.

 

Es ist benutzerfreundlich, kompakt und effizient, wodurch es für verschiedene Produktionsanlagen oder Unternehmensgrößen geeignet ist. Darüber hinaus verfügt unser Gerät über eine manuelle Wartung und vor Ort stattfindende Schulungen mit unserem Team von technischen Supportmitarbeitern.

 

Die Aligner- / Ausrichtungsmaschine von Minder-Hightech verwendet Photolithografietechnologie, um Ihnen dabei zu helfen, die besten Ergebnisse beim Drucken Ihrer Schaltkreise zu erzielen. Erleben Sie ein neues Technologieniveau, das Ihnen eine Genauigkeit und Präzision bietet, die durch traditionelle Druckmethoden nicht erreicht werden kann. Die Aligner- / Ausrichtungsmaschine von Minder-Hightech ist genau das, was Ihre Fertigungsfirma braucht, um einen Schritt voraus zu sein gegenüber der Konkurrenz. Kontaktieren Sie uns heute, um die Vorteile der besten Aligner- / Ausrichtungsmaschinen-Technologie auf dem Markt zu genießen.


Anfrage

Anfrage Email WhatsApp WeChat
Top
×

IN KONTAKT TRETTEN