ABFRAGE DESCUM Photoresist-Entfernung ICP Trockenes Plasma Photoresist-Entfernungsgerät , China ABFRAGE DESCUM Photoresist-Entfernung ICP Trockenes Plasma Photoresist-Entfernungsgerät Manufacturers, Suppliers, Factory

Produktbeschreibung

ICP Trockenes Plasma Fotowiderstandsentfernunggerät

Das ICP-Trockenplasmagerät zur Entfernung von Fotowiderständen wird hauptsächlich zur Entfernung von Polymeren, ASHING, DESCUM, zur Entfernung von Fotowiderständen nach Ioneneintragung und zur Entfernung von Oberflächenrückständen verwendet. Die Kammer ist für 4-8-Zoll-Proben geeignet, wobei in einem einzigen Prozess 1-2 Stück verarbeitet werden.

Waschen
Polymerentfernung
Trockentrennung der harten Maskenschicht
Photoresist-Entfernung nach Ioneneintrag
Entfernung der Fotowiderständigkeit im BAW/SAW-Prozess
Trockenreinigung der antireflektierenden grafischen Filmschicht
Oberflächenrestverteilung
Oberflächenreinigung nach dem Ätzen
DESCUM

ASKING DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine details

ASKING DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine factory

Spezifikation

Plasma			RF	RF
Leistung	ICP	1000 W	1000 W
Leistung		BIAS	600w(Option)	600w(Option)
Anwendungsbereich			4~8 Zoll	4~8 Zoll
Anzahl der einzeln zu verarbeitenden Scheiben			1	2
Aussehende Abmessungen			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
Systemsteuerung			Industrielle Steuerungssysteme	Industrielle Steuerungssysteme
Automatisierungsgrad			automatisch	automatisch