CVD-Ausrüstung für Graphen- und Kohlenstoffnanorohr-Materialien / Halbleiterausrüstung , China CVD-Ausrüstung für Graphen- und Kohlenstoffnanorohr-Materialien / Halbleiterausrüstung Manufacturers, Suppliers, Factory

Produktbeschreibung

CVD-Ausrüstung für Graphen- und Kohlenstoffnanorohr-Materialien

Die Ausrüstung wird hauptsächlich für den Beschichtungsprozess von Graphen und Nanomaterialien verwendet; Diffusion, Oxidation und Annealing von Polysilizium und Siliciumcarbid.

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment details

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment factory

Spezifikation

Konstruktionsart	Horizontal, Einzelrohr- oder Mehrrohrsysteem mit automatischer Steuerung
Anpassung an Wafergröße	2-8″
Wafer-Ein- und Auslademethode	Automatisches Kippquarz-Schiff mit Stoß-Zieh-Funktion, kombiniert mit manueller Chip-Entnahme und -Freigabe.
Maximale Temperatur	1050℃
Betriebstemperatur	400 ℃~850 ℃ stetig verstellbar
Einpunkt-Temperaturstabilität	400℃~850℃≤±0,5℃/24h
System-Grenzvakuum	Besser als 1Pa
Pumpgeschwindigkeit	Pumpzeit bis zum Grenzvakuum < 15Min
Arbeitsdruckbereich	5Pa bis 1 × 105Pa stetig verstellbar
Stromversorgung	3-Phasen 5-polig 380V±10%, 50Hz
Kühlwasser	2~4Kgf/cm², 8L/min;

Verpackung & Lieferung

Unternehmensprofil

Wir haben 16 Jahre Erfahrung im Geräteverkauf. Wir können Ihnen eine umfassende professionelle Lösung für Halbleiter-Ausrüstungen aus China sowohl für Front- als auch für Back-End-Bereiche bieten.