1. Durch die Verwendung eines 355 nm UV-Lasers, einem Produkt mit unabhängigen geistigen Eigentumsrechten und einem amerikanischen Erfindungspatent, weist er eine stabile Leistung und einen guten Spotmodus auf und kann über einen langen Zeitraum stabil arbeiten.
2. Auf- und ab-CCD-Konfiguration, geeignet für transparente und halbtransparente Waferpositionierung.
3. Der Laserstrahl fokussiert auf einen feinen Punkt mit einem Maximum von 4 μm und einer Tiefe von ≥ 25 μ
4. Zuverlässige und hochpräzise XY - θ 5. Effizientes und flexibles Software-Betriebssystem, intuitive Benutzeroberfläche und einfache
Erfassung sind.