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  • Vollautomatisches Doppelkammer-Rapid-Thermal-Processing-System RTP-Ausrüstung
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Vollautomatisches Doppelkammer-Rapid-Thermal-Processing-System RTP-Ausrüstung

Produktbeschreibung

Schnelle Thermische Verarbeitung

Zuverlässige RTP-Ausrüstung für komplexe Halbleiter、SlC、LED und MEMS bereitstellen

Industrielle Anwendungen

* Annealing von Silizidlegierungen
* Oxidationsrückfluss
* Galliumarsenid-Prozess
* Andere Prozesse der schnellen Wärmebehandlung
Spezifikation
Testbericht
Übereinstimmung der 20. Grades Kurven
20 Temperaturenkurven bei 850 ℃ Regelung
Übereinstimmung der 20 Durchschnittstemperaturkurven
Temperaturregelung bei 1250 ℃
RTP-Temperaturregelung
1000 ℃ Prozess
Prozess bei 960 ℃, gesteuert durch einen Infrarot-Pyrometer
LED-Prozessdaten
RTD Wafer ist ein Temperatursensor, der spezielle Verfahrenstechniken verwendet, um Temperatursensoren (RTDs) an bestimmten Stellen auf der Oberfläche eines Wafers einzubetten und ermöglicht die Echtzeitmessung der Oberflächentemperatur des Wafers.

Echte Temperaturmessungen an spezifischen Stellen auf dem Wafer sowie die gesamte Temperaturverteilung des Wafers können durch RTD Wafer erhalten werden; Es kann auch zur kontinuierlichen Überwachung transienter Temperaturänderungen auf Wafers während des Wärmebehandlungsprozesses verwendet werden.
Verpackung & Lieferung
Unternehmensprofil
Wir haben 16 Jahre Erfahrung im Verkauf von Ausrüstungen. Wir können Ihnen eine umfassende Lösung für Halbleiter-Fertigung und -Verpackungslinien aus China bieten!

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