Struktur |
veranschaulichen |
Freilegen der Arbeitsplatte |
Belichtungsbereich: Arbeitsplatte, Substratplatzierungsbereich |
Optisches System |
Laseremissionsformungsbereich |
Umweltkontrollsystem |
Kontrollieren Sie die Innentemperatur und den Überdruck des Geräts |
Plattformsystem |
Steuert die Bewegung des Belichtungstisches, um den Vorgang des Belichtungspfads abzuschließen |
Kontrollsystem |
Steuerung der gesamten Anlage |
Nein. |
Arbeitsumfeld |
Erfordern |
1 |
Lichtquellenumgebung |
Gelbes Licht |
2 |
Temperaturen |
22 ± 2 |
3 |
Luftfeuchtigkeit |
50% ± 10% |
4 |
Sauberkeit |
1000 |
5 |
CDA |
0.6 ± 0.1 MPa, 200 l/min, trockene, saubere Luft |
6 |
Energieversorgung |
220–240 V, 50/60 Hz, 2.5 kW; das Erdungskabel muss geerdet sein. |
7 |
Kühlwasser |
Temp.: 10℃~20℃ Druck: 0.3 MPa ~ 0.5 MPa Durchflussrate: 20 l/min Druckunterschied: 0.3 MPa Kaliber übernehmen: Rc3/8 |
8 |
Veranstaltungsort |
Niveau: ±3mm/3000mm Schütteln: VC-B Lager: 750kg/㎡ |
10 |
Internet |
Ein Netzwerkport |
11 |
Maschinengröße |
1300 x 1100 x 2100 mm |
12 |
Gerätegewicht |
1500 kg |
Nein. |
PROJEKT |
Spez. |
Anmerkung |
1 |
Auflösung |
0.6 µm/oder andere Anforderungen |
AZ703, AZ1350 |
2 |
CDU |
±10 % bei 1 µm |
|
3 |
Substratdicke |
0.2 mm × 4 mm |
|
4 |
Genauigkeit des Datumsrasters |
60nm |
|
5 |
Auflage |
± 500nm |
130mmx130mm |
6 |
Nähgenauigkeit |
± 200nm |
AZ703 |
7 |
MAXIMALE Belichtungsgröße |
190X190mm |
|
8 |
Durchsatz |
≥300mm2/min |
≤ 50 mJ/cm²; |
9 |
Lichtquelle |
LD 375 nm |
|
10 |
Lichtleistung |
6W |
|
11 |
Energiegleichmäßigkeit |
≥ 95% |
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12 |
Licht Leben |
10000hr |
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