struktur |
veranschaulichen |
Belichtungstisch |
Belichtungsgebiet: Tisch, Substratplatzierungsgebiet |
Optisches System |
Laserausstoßformgebiet |
Umgebungskontrollsysteem |
Kontrolliert die innere Temperatur und den Überdruck des Geräts |
Plattformsystem |
Steuert die Bewegung der Belichtungstisch, um den Vorgang des Belichtungspfads abzuschließen |
Kontrollsystem |
Steuerungssystem des gesamten Geräts |
Nein. |
UMWELT |
Erfordern |
1 |
Lichtquellenumgebung |
Gelbes Licht |
2 |
Temperatur |
22℃±2℃ |
3 |
Feuchtigkeit |
50%±10% |
4 |
Sauberkeit |
1000 |
5 |
CDA |
0.6±0.1Mpa, 200LPM, trocken, saubere Luft |
6 |
Stromversorgung |
220~240V, 50/60Hz, 2.5KW; Das Erdkabel muss erdet sein |
7 |
Kühlwasser |
Temp.：10℃~ 20℃ Druck：0.3MPa ~ 0.5MPa Durchfluss：20L/min Druckdifferenz：0.3MPa oder höher Anschlusskaliber：Rc3/8 |
8 |
Ort der Veranstaltung |
ebene：±3mm/3000mm Schwingung：VC-B Lager：750kg/㎡ |
10 |
Internet |
Ein Netzwerkport |
11 |
Maschinengröße |
1300*1100*2100mm |
12 |
Gerategewicht |
1500 kg |
Nein. |
Projekt |
Spezifikationen. |
Bemerkung |
1 |
Auflösung |
0.6um/oder andere Anforderungen |
AZ703, AZ1350 |
2 |
CDU |
±10%@1um |
|
3 |
Substratdicken |
0.2mm～4mm |
|
4 |
Datumsgittergenauigkeit |
60nm |
|
5 |
Überlagerung |
±500nm |
130mmx130mm |
6 |
Verkettungsngenauigkeit |
±200nm |
AZ703 |
7 |
MAX Belichtungsgröße |
190X190mm |
|
8 |
Durchsatz |
≥300mm²/min |
≤50mj/cm²; |
9 |
lichtquelle<br> |
LD 375nm |
|
10 |
lichtleistung |
6W |
|
11 |
Energiegleichmäßigkeit |
≥95 % |
|
12 |
lampenleben |
10000h |
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