|
projekt
|
TECHNISCHE DATEN
|
anmerkungen
|
||
|
1 |
Geräteübersicht |
Ausrüstungsname: Vollautomatische gleichmäßige Kleber-Entwicklungsanlage
|
||
|
Ausrüstungsmodell: MD-2C2D6
|
||||
|
Verarbeitungsspezifikationen für Wafer: kompatibel mit 4/6-Zoll-Standardwafern
|
||||
|
Prozessablauf für gleichmäßiges Kleben: Blumenkorb-Schneiden → Zentrieren → gleichmäßiges Kleben (Tropfen → gleichmäßiges Kleben → Kantenernte, Rückseite
waschen) → Heißplatte → Kaltplatte → Korbplatzieren Entwicklungprozessablauf: Blumenkorb-Schneiden → Zentrieren → Entwicklung (Entwicklungslösung → destilliertes Wasser, Rückwaschen → stickstofftrocknung) → Heißplatte → Kaltplatte → Korbplatzieren |
||||
|
Gesamtgröße (ungefähr): 2100mm (B) * 1800mm (T) * 2100mm (H)
|
||||
|
Chemiekabinengröße (ungefähr): 1700(B) * 800(T) * 1600mm (H)
|
||||
|
Gesamtgewicht (ca.): 1000kg
|
||||
|
Arbeitsflächenhöhe: 1020 ± 50mm
|
||||
|
2 |
Kassetteneinheit
|
Menge: 2
|
||
|
Kompatibler Größe: 4/6 Zoll
|
||||
|
Kassettenerkennung: Mikroschaltererkennung
|
||||
|
Ausholserkennung: Ja, reflektiver Sensor
|
||||
|
3 |
roboter |
Menge: 1
|
||
|
Typ: Doppelarm-Vakuumanhaftungsroboter
|
||||
|
Freiheitsgrade: 4-Achsen (R1, R2, Z, T)
|
||||
|
Fingermaterial: Keramik
|
||||
|
Substratfixierungsverfahren: Vakuumanhaftungsmethode
|
||||
|
Mapping-Funktion: Ja
|
||||
|
Positionsgenauigkeit: ± 0,1mm
|
||||
|
4 |
Zentrierungseinheit
|
Menge: 1 Set
|
Optionale optische Ausrichtung
|
|
|
Ausrichtungsverfahren: mechanische Ausrichtung
|
||||
|
Zentriergenauigkeit: ± 0,2mm
|
||||
|
5 |
Gleiche Klebeeinheit |
Menge: 2 Sets (die folgenden sind Konfigurationen für jede Einheit)
|
||
|
Spindel-Drehzahl: -5000rpm~5000rpm
|
tragender Nutenrolle
|
|||
|
Drehgenauigkeit der Spindel: ± 1rpm (50rpm~5000rpm)
|
||||
|
Minimale Einstellung der Drehgeschwindigkeit der Spindel: 1rpm
|
||||
|
Maximale Beschleunigung der Spindeldrehung: 20000rpm/s
|
tragender Nutenrolle
|
|||
|
Tropfarm: 1 Satz
|
||||
|
Photoresist-Röhrenroute: 2 Routen
|
||||
|
Photoresist-Düsendurchmesser: 2,5mm
|
||||
|
Photoresist-Isolation: 23 ± 0,5 ℃
|
optional
|
|||
|
Befeuchtungsdüse: Ja
|
||||
|
RRC: Ja
|
||||
|
Puffer: Ja, 200ml
|
||||
|
Klebstoff-Auftragsmethode: Zentrales Auftragen und Scannen sind optional
|
||||
|
Kanten-Entfernungsmannschaft: 1 Satz
|
||||
|
Durchmesser der Kanten-Entfernungsdüse: 0,2mm
|
||||
|
Flussüberwachung für Kanten-Entfernung: Schwimmdurchflussmessgerät
|
||||
|
Flussbereich für Kanten-Entfernung: 5-50ml/min
|
||||
|
Rückspülleitung: 2 Wege (je 1 Kanal, 4/6 Zoll)
|
||||
|
Rückspül-Flussüberwachung: Schwimmdurchflussmessgerät
|
||||
|
Flussbereich für Rückspülmedium: 20-200ml/min
|
||||
|
Haltemethode für Chips: Kleine Flächen-Vakuumanzeige Chuck
|
||||
|
Vakuumpressuralarm: digitaler Vakuumpressursensor
|
||||
|
Spannvorrichtungsmaterial: PPS
|
||||
|
Cup-Material: PP
|
||||
|
Cup-Abluftüberwachung: digitaler Drucksensor
|
||||
|
6 |
Entwicklereinheit |
Lamelle: ja
|
||
|
Menge: 2 Sets (die folgenden sind Konfigurationen für jede Einheit)
|
||||
|
Spindel-Drehzahl: -5000rpm~5000rpm
|
tragender Nutenrolle
|
|||
|
Drehgenauigkeit der Spindel: ± 1rpm (50rpm~5000rpm)
|
||||
|
Minimale Einstellung der Drehgeschwindigkeit der Spindel: 1rpm
|
||||
|
Maximale Beschleunigung der Spindeldrehung: 20000rpm/s
|
tragender Nutenrolle
|
|||
|
Entwicklungsarm: 1 Satz
|
||||
|
Entwicklungsleitung: 2-Wege (fächerförmig/säulenförmige Düse)
|
||||
|
Entwicklerfiltration: 0,2 µm
|
||||
|
Entwicklertemperaturregler: 23 ± 0,5 ℃
|
optional
|
|||
|
Entwicklungs-Lösungs-Flussbereich: 100~1000ml/min
|
||||
|
Bewegungsmodus des Entwicklungsarms: Fixpunkt oder Scannen
|
||||
|
Fusionsarm: 1 Satz
|
||||
|
Deionisiertes Wasser Rohrleitung: 1 Schaltung
|
||||
|
Durchmesser der Deionisierwasser-Düse: 4mm (Innendurchmesser)
|
||||
|
Deionisiertes Wasser Flussbereich: 100~1000ml/min
|
||||
|
Stickstoff-Trocknungsrohrleitung: 1 Schaltung
|
||||
|
Durchmesser der Stickstoffdüse: 4mm (Innendurchmesser)
|
||||
|
Stickstoff-Flussbereich: 5-50L/min
|
||||
|
Entwickler, deionisiertes Wasser, Stickstoffflussüberwachung: Schwimmschiff-Flussmeter
|
||||
|
Rückspülleitung: 2 Wege (je 1 Kanal, 4/6 Zoll)
|
||||
|
Rückspül-Flussüberwachung: Schwimmdurchflussmessgerät
|
||||
|
Flussbereich für Rückspülmedium: 20-200ml/min
|
||||
|
Haltemethode für Chips: Kleine Flächen-Vakuumanzeige Chuck
|
||||
|
Vakuumpressuralarm: digitaler Vakuumpressursensor
|
||||
|
Spannvorrichtungsmaterial: PPS
|
||||
|
Spannvorrichtungsmaterial: PPS
|
||||
|
Cup-Material: PP
|
||||
|
Cup-Abluftüberwachung: digitaler Drucksensor
|
||||
|
7 |
Tackerungseinheit |
Menge: 2
|
optional
|
|
|
Temperaturbereich: Raumtemperatur~180 ℃
|
||||
|
Temperaturgleichmäßigkeit: Raumtemperatur~120 ℃± 0,75 ℃
120,1℃~ 180℃ ± 1,5℃ (Entferne 10mm von der Kante, außer beim Auswurfschraubenloch) |
||||
|
Mindestanpassungsbetrag: 0,1 ° C
|
||||
|
Temperaturregelung: PID-Regelung
|
||||
|
PIN-Höhenbereich: 0-20mm
|
||||
|
PIN-Material: Gehäuse SUS304, PIN-Auswurfschraube PI
|
||||
|
Backspalt: 0,2mm
|
||||
|
Übertemperaturalarm: Alarm bei positiver und negativer Abweichung
|
||||
|
Versorgungsweise: Blasen, 10 ± 2ml/min
|
||||
|
Kammerbetrieb Vakuum: -5-20KPa
|
||||
|
8 |
Heizeinheit |
Menge: 10
|
||
|
Temperaturbereich: Raumtemperatur~250 ℃
|
||||
|
Temperaturgleichmäßigkeit: Raumtemperatur~120 ℃± 0,75 ℃
120.1℃~ 180℃ ± 1.5℃ 180.1℃~250℃ ±2.0℃ (Entferne 10mm von der Kante, außer beim Auswurfschraubenloch) |
||||
|
Mindestanpassungsbetrag: 0.1 ℃
|
||||
|
Temperaturregelung: PID-Regelung
|
||||
|
PIN-Höhenbereich: 0-20mm
|
||||
|
PIN-Material: Gehäuse SUS304, PIN-Auswurfschraube PI
|
||||
|
Backspalt: 0,2mm
|
||||
|
Übertemperaturalarm: Alarm bei positiver und negativer Abweichung
|
||||
|
9 |
Kühleinheit
|
Menge: 2
|
||
|
Temperaturbereich: 15-25 ℃
|
||||
|
Kühlmethode: konstant temperierte Zirkulationspumpenkühlung
|
||||
|
10 |
Chemikalienversorgung |
Photoresist-Speicher: pneumatischer Klebstoffpumpen * 4 Sets (Optional Tank oder elektrische Klebstoffpumpe)
|
||
|
Klebemenge pro Durchgang: maximal 12ml, Genauigkeit ± 0,2ml
|
||||
|
Randentfernung/Rückspülung/RRC-Versorgung: 18L Drucktank * 2 (automatische Nachfüllung)
|
||||
|
Flüssigkeitsspiegelüberwachung für Randentfernung/Rückspülung/RRC: Fotoelektrischer Sensor
|
||||
|
Flüssigkeitsspiegelüberwachung für Photoresist: Fotoelektrischer Sensor
|
||||
|
Abfuhr von gleichmäßigem Abfallkleber: 10L Abfallflüssigkeitstank
|
||||
|
Entwickler-Versorgung: 18L Drucktank * 4 (Im Außenchemikalienschrank gespeichert)
|
||||
|
Deionisierte Wasserversorgung: Direktversorgung vom Werk
|
||||
|
Entwicklung der Flüssigkeitsspiegelüberwachung: fotoelektrischer Sensor
|
||||
|
Abwasserabfuhr des Entwicklers: Fabrikabwasserabfuhr
|
||||
|
Zufuhr des Tackifiers: 10L Drucktank * 1, 2L Drucktank * 1
|
||||
|
Spiegelüberwachung des Tackifiers: fotoelektrischer Sensor
|
||||
|
11 |
kontrollsystem |
Steuerungsart: PLC
|
||
|
Mensch-Maschine-Betriebschnittstelle: 17-Zoll-Touchscreen
|
||||
|
Ununterbrochene Stromversorgung (UPS): Ja
|
||||
|
Setze Verschlüsselungsrechte für Gerätebetreiber, Techniker, Administratoren
|
||||
|
Signalturm-Typ: 3 Farben – rot, gelb, grün
|
||||
|
12 |
Systemzuverlässigkeitsindikatoren
|
Betriebszeit: ≥95%
|
||
|
MTBF: ≥ 500h
|
||||
|
MTTR: ≤ 4h
|
||||
|
MTBA: ≥24h
|
||||
|
Fragmentierungsrate: ≤ 1/10000
|
||||
|
13 |
Andere Aufgaben
|
Gelbes Licht: 4 Sets (Position: über der Klebstoff-Misch- und Entwicklungs-Einheit)
|
||
|
THC: Ja, 22,5 ℃± 0,5 ℃, 45% ± 2%
|
optional
|
|||
|
FFU: Klasse 100, 5 Sets (Prozessbereich und ROBOT-Bereich)
|
||||
Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. All Rights Reserved
EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA
