MDPS-560 Pyriformes Doppelkammer-Sputtersystem / Ausrüstung für die Halbleiterindustrie, China MDPS-560 Pyriformes Doppelkammer-Sputtersystem / Ausrüstung für die Halbleiterindustrie Hersteller, Lieferanten, Fabrik

Beschreibung

MDPS-560 Pyriformes Doppelkammer-Sputtersystem

Wird zur Herstellung ein-/mehrschichtiger funktionaler Nanofilme einschließlich verschiedener harter, metallischer, halbleitender und dielektrischer Filme für Universitäten und wissenschaftliche Einrichtungen verwendet.

Sputter-Vakuumkammer, Magnetron-Sputtertarget, wassergekühlter Substratheizdrehtisch, Probeninjektionskammer, Probenkammer, Glühofen, Rückspültarget, magnetischer Probensendemechanismus, Gaskreislauf, Pumpsystem, Vakuummesssystem, elektrisches Steuersystem und Montagebasis.

Normen

Typ			MDPS-560 II
Hauptzerstäubungskammer			birnenförmige Vakuumkammer, Größe: Φ560×350mm
Probeninjektionskammer			zylindrischer und horizontaler Typ, Größe: Φ250mm×420mm
Pumpsystem			unabhängige Verbundmolekularpumpe und mechanischer Pumpensatz für Hauptzerstäubungskammer und Probeninjektionskammer.
Ultimatives Vakuum	Hauptzerstäubungskammer	≤6.67×10-6Pa (nach dem Backen und Entgasen)
Ultimatives Vakuum		Probeninjektionskammer	≤6.67×10-4Pa (nach dem Backen und Entgasen)
Vakuumzeit wiederherstellen	Hauptzerstäubungskammer	6.6×10-4Pa nach 40 Min. (Pumpen nach kurzer Lufteinwirkung und Füllung mit trockenem Stickstoff)
Vakuumzeit wiederherstellen		Probeninjektionskammer	6.6×10-3Pa nach 40 Min. (Pumpen nach kurzer Lufteinwirkung und Füllung mit trockenem Stickstoff)
Magnetron-Zielmodul			5 Permanentmagnet-Ziele; Größe Φ60 mm (eines der Ziele kann ferromagnetisches Material zerstäuben). Alle Ziele können HF-zerstäuben und DC-Sputtern kompatibel; und der Abstand zwischen Ziel und Probe ist von 40 mm bis 80 mm einstellbar.
Wasserkühlung Substratheizung Umdrehungstabelle	Substratstruktur	Sechs Stationen, an einer Station ist ein Heizofen installiert, die anderen sind wassergekühlte Substratstationen.
		Größe	Φ30 mm, sechs Bilder.
		Bewegungsart	0–360 °, hin- und hergehend.
		Heating	Max. Temperatur 600℃±1℃
		Negative Substratvorspannung	-200V
Gaskreislaufsystem			2-Wege-Massendurchflussregler (MFC)
Probeninjektionskammer	Probenkammer	Sechs einfache Dinge auf einmal
		Annealer	Max. Heiztemperatur 800℃±1℃
		Neuzerstäubungszielmodul	Erneute Reinigung durch Sputtern
Magnetproben-Sendesystem			Wird für den Probentransport zwischen Sputterkammer und Probeninjektionskammer verwendet.
Computersteuerungssystem			Probenrotation, Öffnen und Schließen der Blende und Steuerung der Zielposition
Etage belegt	Hauptset	2600 × 900 mm 2
Etage belegt		Sicherungskasten	700×700mm2 (zwei Sätze)

Verpackung & Lieferung

MDPS-560 Pyriformes Doppelkammer-Sputtersystem / Fabrik für Halbleiterindustrieausrüstung

Unternehmensprofil

Wir verfügen über 16 Jahre Erfahrung im Geräteverkauf. Wir können Ihnen professionelle Komplettlösungen für Semiconductor Front-End- und Back-End Package Line-Geräte aus China anbieten.