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  • MDPS-560 Birnengestaltiges Doppelkammer-Sputter-System / Halbleiterindustrie-Ausrüstung
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MDPS-560 Birnengestaltiges Doppelkammer-Sputter-System / Halbleiterindustrie-Ausrüstung

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Produktbeschreibung

MDPS-560 Pyriform Doppelkammer-Sputteranlage

Wird zur Herstellung von ein-/mehrschichtigen funktionalen Nanofilmen verwendet, einschließlich verschiedener harter, metallischer, halbleitender und dielektrischer Filme für Universitäten und Forschungseinrichtungen.

Sputter-Vakuankammer, Magnetronsputterziel, wassergekühlte Substrat-Heizdrehbank, Probeneinführkammer, Probenkammer, Annealer, Rückspülziel, Magnetsamplesendemechanismus, Gaskreis, Vakuumpumpe, Vakuummesssystem, elektrisches Steuersystem und Montagebasis.
MDPS-560 Pyriform Double Chamber Sputtering System / Semiconductor industry equipment manufacture
Spezifikation
TYP
MDPS-560 II
Haupt-Sputterkammer
birneförmige Vakuankammer, Größe: Φ560×350mm
Proben-Einführkammer
zylindrisch und horizontal, Größe: Φ250mm×420mm
Pumpensystem
unabhängiges Komplexturbomolekularpumpen- und Mechanikkreispumpenset für Haupt-Sputterkammer und Proben-Einführkammer.
Endvakuum
Haupt-Sputterkammer
≤6,67×10-6Pa (nach Backen und Entgassen)
Proben-Einführkammer
≤6,67×10-4Pa (nach Backen und Entgassen)
Wiedererlangungs-Vakuumzeit
Haupt-Sputterkammer
6,6×10-4Pa nach 40 Min. (Pumpen nach kurzer Luftexposition und Füllung mit trockenem Stickstoff)
Proben-Einführkammer
6,6×10-3Pa nach 40 Min. (Pumpen nach kurzer Luftexposition und Füllung mit trockenem Stickstoff)
Magnetron-Zielmodul
5 permanente Magnetziele; Größe Φ60mm (eines der Ziele kann ferromagnetisches Material abschlagen). Alle Ziele können RF-Abschlag durchführen.
und DC-Abschlag kompatibel; und der Abstand zwischen Ziel und Probe ist von 40mm bis 80mm einstellbar.
Wasser gekühlter Substrat-Heizungs-Drehtable
Substratstruktur
Sechs Stationen, Heizofen installiert an einer Station, und die anderen sind wassergekühlte Substratstationen.
Größe
Φ30mm, sechs Stück.
Bewegungsart
0-360°, wechselweise.
Heizung
Max. Temperatur 600℃±1℃
Substrat Negativspannung
-200V
Gasleitsystem
2-Wege Massenstromregler (MFC)
Proben-Einführkammer
Probeabteilung
Sechs einfache gleichzeitig
Annealer
Max. Heiztemperatur 800℃±1℃
Resputtering Zielmodul
Resputtering Reinigung
Magnetisches Probenversandssystem
Wird für den Transport von Proben zwischen Sputterkammer und Probeneinschusskammer verwendet.
Computergesteuertes System
Probenrotation, Öffnen und Schließen des Dampfventils sowie Zielpositionskontrolle
Fläche belegt
Hauptset
2600×900mm2
Elektrische Schranke
700×700mm2 (zwei Sets)
Verpackung & Lieferung
MDPS-560 Pyriform Double Chamber Sputtering System / Semiconductor industry equipment factory
MDPS-560 Pyriform Double Chamber Sputtering System / Semiconductor industry equipment factory
Unternehmensprofil
Wir haben 16 Jahre Erfahrung im Geräteverkauf. Wir können Ihnen eine umfassende professionelle Lösung für Halbleiter-Ausrüstungen aus China sowohl für Front- als auch für Back-End-Bereiche bieten.

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