Diese Anlage ist eine Präzisionslithografie-Maschine, die unser Unternehmen speziell für die Einsatzmerkmale von Lithografie-Maschinen in verschiedenen Universitäten und Forschungseinrichtungen entwickelt hat. Sie wird hauptsächlich für die Entwicklung und Produktion von Klein- und Mittelintegrierten Schaltkreisen, Halbleiterkomponenten, Optoelektronikbauelementen und Oberflächenakustikwellenbauelementen verwendet.
Unter der Voraussetzung, die ursprünglichen Haupttechnischen Kennwerte des Geräts beizubehalten, haben wir einige Strukturen und Komponenten des Geräts optimiert, einige unnötige mechanische Aktionen reduziert und gesichert, dass die Ausfallpunkte des Geräts so weit wie möglich minimiert werden, wodurch auch der Betrieb des Geräts sehr stabil und zuverlässig ist.