Schnelle thermische Verarbeitung Desktop RTP-System für Compound-Halbleiter SlC LED und MEMS , China Schnelle thermische Verarbeitung Desktop RTP-System für Compound-Halbleiter SlC LED und MEMS Manufacturers, Suppliers, Factory

Produktbeschreibung

Schnelle Thermische Verarbeitung

Zuverlässige RTP-Ausrüstung für komplexe Halbleiter、SlC、LED und MEMS bereitstellen

Industrielle Anwendungen

* Oxid-, Nitridwachstum
* Ohmscher Kontakt, schnelles Legieren
* Annealing von Silizidlegierungen
* Oxidationsrückfluss
* Galliumarsenid-Prozess
* Andere Prozesse der schnellen Wärmebehandlung

Rapid Thermal Processing Desktop RTP System for compound semiconductors SlC LED and MEMS details

Produktvorteile

1. Der Prozessbereich umfasst 200-1250 ℃
2. Ein leistungsientes Temperaturfeld-Managementsystem
3. Spezieller RTP-Algorithmus
4. Professionelles TC-Wafer-Kalibrierungstool

Funktion

* Infrarot-Halogenröhrenheizung, Abkühlung mittels Luftkühlung;
* PlD-Temperaturregler für die Lampenleistung, die eine genaue Temperaturregelung sicherstellt und eine gute Reproduzierbarkeit und Temperaturgleichmäßigkeit gewährleistet;
* Der Materialzugang ist auf der WAFER-Oberfläche positioniert, um während des Annealing-Prozesses kalte Punkte zu vermeiden und eine gute Temperaturgleichmäßigkeit des Produkts sicherzustellen;
* Sowohl atmosphärische als auch Vakuumbearbeitungsverfahren können ausgewählt werden, mit Vorbehandlung und Reinigung des Körpers;
* Zwei Sätze von Prozessgasen sind standardmäßig vorhanden und können auf bis zu 6 Sätze von Prozessgasen erweitert werden;
* Die maximale Größe eines messbaren Einzelsilizium-Proben ist 12 Zoll (300x300 MM);
* Die drei Sicherheitsmaßnahmen des sicheren Temperaturöffnungs-Schutzes, der Temperaturregler-Öffnungsberechtigungsschutz und der Notstoppsicherheit des Geräts werden vollständig umgesetzt, um die Sicherheit des Instruments zu gewährleisten;

Übereinstimmung der 20. Grades Kurven

Rapid Thermal Processing Desktop RTP System for compound semiconductors SlC LED and MEMS manufacture

20 Temperaturenkurven bei 850 ℃ Regelung

Rapid Thermal Processing Desktop RTP System for compound semiconductors SlC LED and MEMS factory

Übereinstimmung der 20 Durchschnittstemperaturkurven

temperaturregelung bei 1250 ℃

Rapid Thermal Processing Desktop RTP System for compound semiconductors SlC LED and MEMS supplier

RTP-Temperaturregelung für den 1000 ℃ Prozess

prozess bei 960 ℃, gesteuert durch einen Infrarot-Pyrometer

LED-Prozessdaten

RTD Wafer ist ein Temperatursensor, der spezielle Verfahrenstechniken verwendet, um Temperatursensoren (RTDs) an bestimmten Stellen auf der Oberfläche eines Wafers einzubetten und ermöglicht die Echtzeitmessung der Oberflächentemperatur des Wafers.
Echte Temperaturmessungen an spezifischen Stellen auf dem Wafer sowie die gesamte Temperaturverteilung des Wafers können durch RTD Wafer erhalten werden; Es kann auch zur kontinuierlichen Überwachung transienter Temperaturänderungen auf Wafers während des Wärmebehandlungsprozesses verwendet werden.