* Infrarot-Halogenröhrenheizung, Abkühlung mittels Luftkühlung;
* PlD-Temperaturregler für die Lampenleistung, die eine genaue Temperaturregelung sicherstellt und eine gute Reproduzierbarkeit und Temperaturgleichmäßigkeit gewährleistet;
* Der Materialzugang ist auf der WAFER-Oberfläche positioniert, um während des Annealing-Prozesses kalte Punkte zu vermeiden und eine gute Temperaturgleichmäßigkeit des Produkts sicherzustellen;
* Sowohl atmosphärische als auch Vakuumbearbeitungsverfahren können ausgewählt werden, mit Vorbehandlung und Reinigung des Körpers;
* Zwei Sätze von Prozessgasen sind standardmäßig vorhanden und können auf bis zu 6 Sätze von Prozessgasen erweitert werden;
* Die maximale Größe eines messbaren Einzelsilizium-Proben ist 12 Zoll (300x300 MM);
* Die drei Sicherheitsmaßnahmen des sicheren Temperaturöffnungs-Schutzes, der Temperaturregler-Öffnungsberechtigungsschutz und der Notstoppsicherheit des Geräts werden vollständig umgesetzt, um die Sicherheit des Instruments zu gewährleisten;