PLASMA |
RF |
RF |
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Power |
ICP |
1000w |
1000w |
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BIAS |
600 W (Option) |
600 W (Option) |
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Anwendbarer Umfang |
4 ~ 8 Zoll |
4 ~ 8 Zoll |
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Anzahl einzelner Verarbeitungssegmente |
1 |
2 |
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Aussehen Abmessungen |
1080x1840x1800mm |
1340x2050x1800mm |
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Systemkontrolle |
Industrielle Steuerung |
Industrielle Steuerung |
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Automatisierungsstufe |
maschinell |
maschinell |
Hardware-Fähigkeit |
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Betriebszeit/Verfügbare Zeit |
≧ 95% |
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Mittlere Reinigungszeit (MTTC) |
≦6 Stunden |
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Mittlere Reparaturzeit (MTTR) |
≦4 Stunden |
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Mittlere Betriebsdauer zwischen Ausfällen (MTBF) |
≧350 Stunden |
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Mittlere Zeit zwischen Assistenten (MTBA) |
≧24 Stunden |
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Mittlerer Waferbruchanteil (MWBB) |
≦1 von 10,000 Wafern |
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Heizplattensteuerung |
50-250 ° |
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