Halbleiterwafer Plasma Photoresist Entfernungsgerät PR-Entfernungsausrüstung Ernsthaft , China Halbleiterwafer Plasma Photoresist Entfernungsgerät PR-Entfernungsausrüstung Ernsthaft Manufacturers, Suppliers, Factory

Produktbeschreibung

BATCH PLASMA Halbleiterwafer-Photoresist-Entfernungsgerät

Die Verarbeitungstemperatur ist niedrig und kann Plasma bei hohem Druck aufrechterhalten

DESCUM Wafer-Reinigung Nasse Entfernung des Photoresists Oberflächenrückstandsentfernung Entfernung von Photoresist-Rückständen nach Belichtung und Entwicklung

Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious supplier

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Spezifikation

Plasmaquelle	RF	mikrowellen
Leistung	1000 W	1250w
Anwendungsbereich	4~8 Zoll	4~8 Zoll
Anzahl der einzeln zu verarbeitenden Scheiben	4~6 inch=50 Stück\/8inch=25 Stück	4~6 inch=50 Stück\/8 inch=25 Stück
Aussehende Abmessungen	1250x1630x1900mm	1250x1630x1900mm
Systemsteuerung	PC	PC
Automatisierungsgrad	AUTO	AUTO

Fabrik

Produktdetails

Verpackung & Lieferung

Unternehmensprofil

16 Jahre Erfahrung im Export von Anlagen! Wir können Ihnen eine umfassende Lösung für Halbleiter-Prozesse und -Anlagen bereitstellen, sowohl für Front- als auch für Back-End-Prozesse!