Qual è lo scopo di un sistema di elaborazione termica rapida (RTP) nel processo di produzione dei wafer?

La tecnologia RTP utilizza lampade alogene a infrarossi come fonte di calore per riscaldare rapidamente il materiale alla temperatura desiderata, migliorando così la struttura cristallina e le proprietà optoelettroniche del materiale.

Le sue caratteristiche includono elevata efficienza, risparmio energetico, elevato grado di automazione e riscaldamento uniforme.

Inoltre, l'RTP offre un'elevata precisione nel controllo della temperatura e un'uniformità della temperatura tali da soddisfare le esigenze di vari processi complessi.

Inoltre, RTP adotta un avanzato sistema di controllo del microcomputer e la tecnologia di controllo della temperatura a circuito chiuso PID, garantendo un'elevata precisione e uniformità del controllo della temperatura e soddisfacendo le esigenze di vari processi complessi.

Utilizzando fonti di calore efficienti, come lampade alogene a infrarossi, per riscaldare rapidamente il wafer a una temperatura prestabilita, è possibile eliminare alcuni difetti all'interno del wafer e migliorarne la struttura cristallina e le prestazioni optoelettroniche.

Questo controllo della temperatura ad alta precisione è molto importante per la qualità del wafer e può migliorarne efficacemente le prestazioni e l'affidabilità.

Nel processo di fabbricazione dei wafer, l'applicazione dell'RTP include, ma non è limitata ai seguenti aspetti:

1. Ottimizzazione della struttura cristallina:

L'alta temperatura aiuta a riorganizzare la struttura cristallina, a eliminare i difetti della struttura cristallina, a migliorare l'ordine del cristallo e quindi a migliorare la conduttività elettronica dei materiali semiconduttori.

2. Rimozione delle impurità:

L'RTP può promuovere la diffusione di impurità dai cristalli semiconduttori, riducendo la concentrazione di impurità. Ciò aiuta a migliorare le proprietà elettroniche dei dispositivi semiconduttori e a ridurre i livelli di energia o la dispersione di elettroni causata dalle impurità.

3. Nella tecnologia CMOS, l'RTP può essere utilizzato per rimuovere materiali di substrato quali ossido di silicio o nitruro di silicio per formare dispositivi SOI (isolanti su silicio) ultrasottili.

RTP è un'apparecchiatura chiave nel processo di produzione dei semiconduttori, caratterizzata da elevata precisione, elevata efficienza e elevata flessibilità. È di grande importanza per migliorare le prestazioni dei wafer e promuovere lo sviluppo dell'industria dei semiconduttori.