Nel gennaio 2023, una società di ricerca e sviluppo di chip nell'Europa orientale ci ha contattato. Hanno bisogno dello sviluppo di campioni per verificare più wafer di diverse dimensioni, al fine di aiutare più aziende ad aggiornare i propri prodotti. Poiché si tratta di un'e...
L'applicazione delle macchine per la pulizia al plasma nell'industria dei semiconduttori è molto ampia e si riflette principalmente nei seguenti aspetti: ▘Pulizia con attivazione superficiale: per la pulizia con attivazione superficiale di wafer, chip IC, wafer di silicio semiconduttore, e...
Incisione: sono disponibili due elettrodi per i processi di incisione: ■ Elettrodo con ampio intervallo di temperatura (da -150°C a +400°C), raffreddato da azoto liquido, refrigerante a circolazione liquida o resistenza a temperatura variabile. Spurgo opzionale e s...
Perché è necessario rimuovere il fotoresist? Come è ben noto, il fotoresist è il materiale principale per la produzione di wafer semiconduttori. Nel processo di produzione di wafer, la fotolitografia rappresenta circa il 35% del costo totale di produzione di wafer...
Sistema di incisione ionica reattiva Forniamo soluzioni personalizzate in modo professionale per i clienti Personalizzazione RIE (Cl₂) a doppia camera A febbraio 2024, abbiamo ricevuto una richiesta da un cliente per un processo di cloro wafer da 100 mm. Questa è un'applicazione interessante...
RTP utilizza lampade alogene a infrarossi come fonte di calore per riscaldare rapidamente il materiale alla temperatura desiderata, migliorando così la struttura cristallina e le proprietà optoelettroniche del materiale. Le sue caratteristiche includono alta efficienza, risparmio energetico, ...
Nella catena industriale dei LED, a monte c'è la produzione epitassiale di materiali luminescenti LED e produzione di chip, a metà strada è l'industria dell'imballaggio di dispositivi LED e a valle è l'industria formata dall'applicazione di display LED...
Perché rimuovere il fotoresist? Nei moderni processi di produzione di semiconduttori, una grande quantità di fotoresist viene utilizzata per trasferire la grafica del circuito stampato attraverso la sensibilità e lo sviluppo della maschera e del fotoresist al fotoresist del wafer, formando speci...
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