Zintegrowane rozwiązanie dla maszyn do usuwania fotorezystu mikrofalowego przy użyciu plazmy do pakowania półprzewodników, Chiny Zintegrowane rozwiązanie dla maszyn do usuwania fotorezystu mikrofalowego przy użyciu plazmy do pakowania półprzewodników Producenci, dostawcy, fabryka

opis produktu

Maszyna do usuwania fotorezystu w plazmie mikrofalowej

Zintegrowane rozwiązanie plazmowe do pakowania półprzewodników

Zintegrowane rozwiązanie do pakowania półprzewodników

Maszyna do usuwania fotorezystu w plazmie mikrofalowej to niskonapięciowy system usuwania fotomaski w plazmie mikrofalowej, zaprojektowany specjalnie do półprzewodników. Przykładając kuchenkę mikrofalową o częstotliwości 2.45 GHz do okienka na ściance komory próżniowej, generowana jest duża i ciągła ilość plazmy, która wchodzi do komory w celu procesowego czyszczenia chipa. Nadaje się do różnych rozmiarów skrzynek materiałowych, może spełniać różne potrzeby i zapewniać niestandardowe rozwiązania.

Zintegrowane rozwiązanie dla opakowań półprzewodników Dostawca maszyny do usuwania fotorezystu w plazmie mikrofalowej

Zintegrowane rozwiązanie do pakowania półprzewodników Produkcja maszyn do usuwania fotorezystu w plazmie mikrofalowej

Zintegrowane rozwiązanie dla opakowań półprzewodników Fabryka maszyn do usuwania fotorezystu w plazmie mikrofalowej

Zintegrowane rozwiązanie do pakowania półprzewodników Szczegóły maszyny do usuwania fotorezystu w plazmie mikrofalowej

Specyfikacja

Źródło PLAZMA	kuchenka mikrofalowa
power	0-1250W
przestrzeń robocza	6 zakresów magazynków (zakres rozmiarów magazynków: dł. 260 mm x szer. 95 mm x wys. 190 mm)
zdolność przetwarzania	Skok 35um/40um Wybrzuszenie Maksymalny rozmiar matrycy 15x15mm
Wymiary wyglądu	480mmx470mmx500mm
Kontrola systemu	Przemysłowy system sterowania
Poziom automatyzacji	Instrukcja obsługi