Empresa: Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd.

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Fotolitografia do alinhador/máquina de alinhamento

Descrição dos Produtos
Máquina de litografia com alinhador de máscara
O alinhador de máscara é usado principalmente no desenvolvimento e produção de circuitos integrados de pequena e média escala, componentes semicondutores, dispositivos optoeletrônicos, dispositivos de ondas acústicas de superfície, circuitos de película fina e dispositivos eletrônicos de potência.
Alinhador de máscara Também conhecido como: máquina de exposição para alinhamento de máscara, sistema de exposição, sistema de litografia, etc., é o equipamento principal para a fabricação de chips. Ele usa tecnologia semelhante à impressão de fotos para imprimir os padrões finos da máscara no wafer de silício por exposição à luz
Composto principalmente por: bancada de alinhamento de alta precisão, microscópio vertical de campo de visão separado binocular, microscópio horizontal de campo de visão separado binocular, câmera digital, sistema de memória de imagem de computador, cabeça de exposição de fonte de luz multiponto (olho de mosca), sistema de controle PLC, sistema pneumático, sistema de vácuo, bomba de vácuo de conexão direta, bancada secundária antivibração e caixa de acessórios
Fabricação de fotolitografia de alinhador/máquina de alinhamento
Fábrica de fotolitografia de alinhador/máquina de alinhamento
Característica
1. Cabeça de exposição fly-eye de alta uniformidade / mecanismo de nivelamento de flutuação de ar / exposição confiável de fixação a vácuo. alta resolução.
2. O método de alinhamento por máscara mantém a alimentação estável e do substrato, o que garante a consistência da gravidade guia e da força.
3. Usando guia reto sem intervalos, alta precisão e velocidade rápida.
4. Todos os modelos são adequados para trabalhar com todos os fotorresistentes padrão. como AZ, Shipley, SU 8.
5. Todos os modelos A qualidade do padrão transferida pelo sistema para as aplicações de máscara do substrato 5 deve ser a mesma que a qualidade do padrão após a aplicação da primeira máscara.
6. Tempo de exposição ajustável entre 1 segundo e 1 hora. Precisão de alinhamento 1 µm
Fornecedor de fotolitografia de alinhador/máquina de alinhamento
Detalhes de fotolitografia do alinhador/máquina de alinhamento
Detalhes de fotolitografia do alinhador/máquina de alinhamento
Fábrica de fotolitografia de alinhador/máquina de alinhamento
Fabricação de fotolitografia de alinhador/máquina de alinhamento
Detalhes de fotolitografia do alinhador/máquina de alinhamento
Fábrica de fotolitografia de alinhador/máquina de alinhamento
Fábrica de fotolitografia de alinhador/máquina de alinhamento
Fabricação de fotolitografia de alinhador/máquina de alinhamento
Detalhes de fotolitografia do alinhador/máquina de alinhamento
Especificação
Modelo
MD-G25A
MD-G25D
MD-G31

MD-G33



Tipo de exposição
Um lado

Alinhamento lateral duplo e exposição lateral dupla



modo de exposição
Contato forte, suave e proximidade sem contato




Quantidade de cabeça de exposição
1 cabeça de exposição

2 cabeça de exposição



Tipo de fonte de luz
Lâmpada esférica de mercúrio GCQ350



Cabeça de exposição LED UV

método de resfriamento
resfriamento do ar




Área de exposição
Φ100mm
110 × 110mm
Φ100mm

150mm × 150mm



modo de exposição
Compatível com contato duro, macio




Desigualdade de exposição
Φ100mm<±3%<>
≤ ± 3%




Resolução de exposição
2μm
1 μm




Intensidade do feixe(365 nm)
≥6mW/cm²
≤40mw/cm2
≥5mW/cm2

0~30mw/cm2



Inomogeneidade do feixe
≤ ± 4%
≤ ± 3%




Ângulo de desvio máximo da luz UV




Alcance de iluminação
≤Φ117mm
Φ117mm
≤Φ117mm

Frente e verso ≥ Φ115mm



Modo de compensação de erro de cunha
Compensação automática hemisférica

Eliminação automática

Compensação automática de 3 pontos


O percurso dos eixos X e Y
± 4mm
± 5mm
± 4mm

± 5 mm



A viagem do θ
± 3 °
≤5 °
≤ ± 5º

≤0.5 °



Resolução de deslocamento do substrato XYZ
0.5μm
0.3μm
0.3μm

0.01μm



Sistema de microscópio
Dois microscópios de barril único/Duas câmeras CCD




Exibir tamanho
15 polegadas




Resolução do sistema de imagem
2μm
1.5μm
1.5μm

1.5μm



Máscara e distância de medição do substrato
0.5 hum
0.3 hum




Dimensão diagonal da superfície alvo CCD
1/3,(6mm)



40 mm ~ 110 mm

Configurando o tamanho da tabela
≤ Quadrado 5*5 polegadas (especificações personalizáveis)




Tamanho dos substratos
Φ 100mm ou 100*100mm quadrado
Quadrado de 60*49.5mm
2 "-4"

1"x1"-5"x5"



Espessura do substrato
1-3mm
≤5 mm
1-3mm

≤5 mm



Bomba de vácuo
Silenciador sem óleo(-0.07~-0.08MPα)




Ar comprimido limpo
≥0.4MPα




Fonte de alimentação do laboratório
CA 220V±10% 50HZ 1.5KW




Classe de sala limpa
Aula 100




Temperatura ambiente limpo
25 ℃ ± 2 ℃




Umidade relativa da sala limpa
≤60%




Amplitude de vibração da sala limpa
≤4μm




Tamanho do equipamento
1300 × 720 × 1600 mm


1500 × 800 × 1600 mm


Peso do equipamento
200kg


280kg


A fabricação de sistemas de alinhamento de alta precisão precisa ter um processo mecânico de precisão quase perfeito. Outro problema técnico do sistema de alinhamento é o microscópio de alinhamento. Para melhorar o campo de visão do microscópio, muitas máquinas de litografia de última geração usam iluminação LED. Existem dois conjuntos de sistema de alinhamento com função de foco. É composto principalmente por dois olhos e dois campos de visão voltados para o corpo principal do microscópio, um par de oculares e um par de lentes objetivas (a máquina de litografia geralmente fornece ocular e lente objetiva com ampliações diferentes para os usuários). A função do sistema de alinhamento CCD é ampliar as marcas de alinhamento da máscara e da amostra e reproduzi-las no monitor.
Fábrica de fotolitografia de alinhador/máquina de alinhamento
Fábrica de fotolitografia de alinhador/máquina de alinhamento
O estágio da peça de trabalho é uma parte fundamental da máquina de litografia, que é composta pelo estágio de movimento geral da amostra de máscara (XY), o estágio de movimento relativo da amostra de máscara (XY), o estágio de rotação, o mecanismo de nivelamento da amostra, o mecanismo de foco da amostra , o estágio de wafer, o grampo de máscara e o estágio de máscara extraível. O mecanismo de nivelamento da amostra compreende uma sede esférica e um hemisfério. No processo de nivelamento, primeiro, o ar pressurizado é aplicado à sede esférica e ao hemisfério e, em seguida, a sede esférica, o hemisfério e a peça de amostra se movem para cima através do volante de foco, de modo que a peça de amostra possa ser nivelada contra a máscara e, em seguida, a válvula solenóide de três posições e duas posições muda a sede esférica e o hemisfério para vácuo para travamento e manutenção do estado de nivelamento.
Detalhes de fotolitografia do alinhador/máquina de alinhamento
Fornecedor de fotolitografia de alinhador/máquina de alinhamento
Fábrica de fotolitografia de alinhador/máquina de alinhamento
Detalhes de fotolitografia do alinhador/máquina de alinhamento
Fábrica de fotolitografia de alinhador/máquina de alinhamento



A Minder-Hightech traz para você uma tecnologia avançada para fotolitografia através do Aligner/Alignment Machine.

 

Você está lutando contra a falta de precisão ao imprimir circuitos em seus produtos eletrônicos? Com a Máquina Alinhadora/Alinhadora da Minder-Hightech, você pode ficar tranquilo sabendo que alcançará precisão de alto nível na produção de seus circuitos impressos.

 

Com este item revolucionário, você pode transferir perfeitamente uma imagem de alta resolução para um produto usando fotolitografia. Esta máquina garante precisão através de um sistema operacional de alinhamento do material à imagem.

 

Após a impressão e o upload das fotos, a máquina calcula a quantidade de exposição necessária e como o material está alinhado com a menção das fotos. Este cálculo é feito utilizando softwares de informática de última geração, que podem ser atualizados para acompanhar o desenvolvimento tecnológico da indústria produtiva.

 

Isso permitirá que você crie uma ampla gama, incluindo microcircuitos, circuitos de radiofrequência (RF) e circuitos integrados. A unidade pode produzir a melhor profundidade de gravação, largura de trilha e alinhamento camada a camada através da adição de vários procedimentos complementares, como ataque químico e galvanoplastia.

 

A vantagem do nosso produto está na capacidade de produzir alto alinhamento, o que garante que os padrões sejam situados com grande precisão no material. Você pode imprimir convenientemente muitos designs complicados sem deformidades.

 

É fácil de usar, compacto e eficiente, tornando-o adequado para diversas instalações de fabricação ou tamanhos de empresas. Além disso, nosso dispositivo vem com manutenção manual e treinamento no local com nossa equipe de suporte técnico.

 

A máquina de alinhamento/alinhamento da Minder-Hightech usa tecnologia de fotolitografia para ajudá-lo a obter os melhores resultados ao imprimir seus circuitos. Experimente um novo nível de tecnologia que oferece alta exatidão e precisão que não podem ser igualadas pelos métodos de impressão tradicionais. A máquina de alinhamento/alinhamento da Minder-Hightech é o que sua empresa de manufatura precisa para ficar um passo à frente da concorrência. Entre em contato conosco hoje mesmo para aproveitar os benefícios da melhor tecnologia de alinhadores/máquinas de alinhamento do mercado.


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