Apa tujuan sistem Pemrosesan Termal Cepat (RTP) dalam proses pembuatan wafer? Indonesia

RTP menggunakan lampu inframerah halogen sebagai sumber panas untuk memanaskan material dengan cepat hingga suhu yang diinginkan, sehingga meningkatkan struktur kristal dan sifat optoelektronik material.

Fitur-fiturnya meliputi efisiensi tinggi, hemat energi, otomatisasi tingkat tinggi, dan pemanasan seragam.

Selain itu, RTP juga memiliki akurasi kontrol suhu dan keseragaman suhu yang tinggi, yang dapat memenuhi kebutuhan berbagai proses yang kompleks.

Selain itu, RTP mengadopsi sistem kontrol komputer mikro canggih dan teknologi kontrol suhu loop tertutup PID, ia memiliki akurasi kontrol suhu tinggi dan keseragaman suhu, dan dapat memenuhi kebutuhan berbagai proses yang kompleks.

Dengan menggunakan sumber panas yang efisien seperti lampu inframerah halogen untuk memanaskan wafer secara cepat hingga suhu yang telah ditentukan, beberapa cacat di dalam wafer dapat dihilangkan, dan struktur kristal serta kinerja optoelektroniknya dapat ditingkatkan.

Kontrol suhu presisi tinggi ini sangat penting untuk kualitas wafer dan dapat secara efektif meningkatkan kinerja dan keandalan wafer.

Dalam proses pembuatan wafer, penerapan RTP meliputi namun tidak terbatas pada aspek-aspek berikut:

1. Optimasi struktur kristal:

Suhu tinggi membantu menata ulang struktur kristal, menghilangkan cacat struktur kristal, meningkatkan keteraturan kristal, dan dengan demikian meningkatkan konduktivitas elektronik bahan semikonduktor.

2. Penghapusan pengotor:

RTP dapat meningkatkan difusi pengotor dari kristal semikonduktor, sehingga mengurangi konsentrasi pengotor. Hal ini membantu meningkatkan sifat elektronik perangkat semikonduktor dan mengurangi tingkat energi atau hamburan elektron yang disebabkan oleh pengotor.

3. Dalam teknologi CMOS, RTP dapat digunakan untuk menghilangkan bahan substrat seperti silikon oksida atau silikon nitrida untuk membentuk perangkat SOI (isolator pada silikon) yang sangat tipis.

RTP merupakan peralatan utama dalam proses produksi semikonduktor, yang dicirikan oleh presisi tinggi, efisiensi tinggi, dan fleksibilitas tinggi. Peralatan ini sangat penting untuk meningkatkan kinerja wafer dan mendorong pengembangan industri semikonduktor.