Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Ana Sayfa
Hakkımızda
MH Ekipmanları
Çözüm
Denizaşırı Kullanıcılar
Video
Bize Ulaşın
application of plasma photoresist removal equipment in wafer manufacturing process-42
Ana Sayfa> Ön Uç Süreci

Plazma Fotorezist Çıkarma Ekipmanının Wafer Üretim Sürecinde Uygulanması Türkiye

Zaman: 2024-12-06

Fotorezistin çıkarılması neden gereklidir?

Bilindiği üzere, fotorezist yarı iletken yonga imalatının temel malzemesidir. Yonga imalatı sürecinde, fotolitografi toplam yonga imalat maliyetinin yaklaşık %35'ini oluşturur ve tüm yonga prosesinin %40-50'sini tüketir, bu da onu yarı iletken imalatındaki en kritik süreç haline getirir.

Fotolitografi sürecinde vazgeçilmez bir adım, fotorezistin gofretten çıkarılmasıdır. Desen çoğaltma ve transfer süreci tamamlandıktan sonra, gofret yüzeyinde kalan fotorezistin tamamen çıkarılması gerekir.

Sevimli çiçek deseni.png.jpg去除光刻胶 去胶机 (2).jpg

去除光刻胶 去胶机 (3).jpg去除光刻胶 去胶机 (4).jpg去除光刻胶 去胶机 (5).jpg

Fotorezistin ICP plazma ile uzaklaştırılması

ICP plazma fotorezist çıkarma makinesi, yüksek yoğunluklu, düşük hasarlı bir plazma kaynağı tasarımını benimser ve yüksek düzeyde fotorezist çıkarma oranı ve hasar baskılaması elde etmek için olgun uzak ICP teknolojisi ile donatılmıştır; fotorezist çıkarmada düzgün akış alanı dağılımı ve mükemmel düzgünlük elde etmek için bağımsız bir hazne yapısı tasarımı benimser.

Fotoğraf 1.jpgFotoğraf 2.jpg

Ürünün avantajları:

● Ana akım 4-8 inç dairesel gofretler ile uyumludur

● İşleme sırasında daha düşük bir sıcaklığı koruyarak aynı anda iki gofreti işleyebilir

● Yüksek otomasyon derecesi, tam otomatik gofret yükleme ve boşaltma, temizleme işlemi elde edilir

● Yüksek plazma yoğunluğu, fotorezistin iyi uzaklaştırılması etkisi

application of plasma photoresist removal equipment in wafer manufacturing process-51Sorgula application of plasma photoresist removal equipment in wafer manufacturing process-52E-posta application of plasma photoresist removal equipment in wafer manufacturing process-53WhatsApp application of plasma photoresist removal equipment in wafer manufacturing process-54 WeChat
application of plasma photoresist removal equipment in wafer manufacturing process-55
application of plasma photoresist removal equipment in wafer manufacturing process-56Iyi