Pada Januari 2023, sebuah syarikat penyelidikan dan pembangunan cip di Eropah Timur menghubungi kami. Mereka memerlukan pembangunan sampel untuk mengesahkan berbilang wafer dengan saiz yang berbeza, untuk membantu lebih banyak syarikat menaik taraf produk mereka. Kerana ia adalah e...
Penggunaan mesin pembersihan plasma dalam industri semikonduktor adalah sangat luas, terutamanya dicerminkan dalam aspek berikut: ▘Pembersihan pengaktifan permukaan: Untuk pembersihan pengaktifan permukaan wafer, cip IC, wafer silikon semikonduktor, e...
Goresan： Dua elektrod tersedia untuk proses etsa: ■ Elektrod dengan julat suhu yang luas (-150°C hingga +400°C), disejukkan dengan nitrogen cecair, penyejuk beredar cecair atau perintang suhu berubah-ubah. Cucian dan cecair pilihan pilihan...
Mengapa perlu mengeluarkan photoresist? Seperti yang diketahui, photoresist adalah bahan teras untuk pembuatan wafer semikonduktor. Dalam proses pembuatan wafer, fotolitografi menyumbang kira-kira 35% daripada jumlah kos pembuatan wafer ...
Sistem etsa ion reaktif Secara Profesional Menyediakan Penyelesaian Tersuai untuk Pelanggan Penyesuaian RIE (Cl₂) dwi ruang Pada Februari 2024, kami menerima permintaan daripada pelanggan untuk proses Klorin wafer 100mm. Ini adalah aplikasi yang menarik...
RTP menggunakan lampu inframerah halogen sebagai sumber haba untuk memanaskan bahan dengan cepat ke suhu yang dikehendaki, dengan itu meningkatkan struktur kristal dan sifat optoelektronik bahan. Ciri-cirinya termasuk kecekapan tinggi, penjimatan tenaga, ...
Dalam rantaian industri LED, huluan adalah pembuatan epitaxial bahan bercahaya LED dan pembuatan cip, aliran tengah adalah industri pembungkusan peranti LED, dan hiliran adalah industri yang dibentuk oleh penggunaan displa...
Mengapa mengalih keluar photoresist? Dalam proses pengeluaran semikonduktor moden, sejumlah besar photoresist digunakan untuk memindahkan grafik papan litar melalui kepekaan dan pembangunan topeng dan photoresist kepada wafer photoresist, membentuk spesi...
Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
Hak Cipta © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. Hak Cipta Terpelihara
EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
TIDAK
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA
